Устройство для нанесения светочувствительных покрытий на основу кинофотоматериалов Советский патент 1987 года по МПК B05C5/02 G03C1/74 

Изобретение относится к технике производства кинофотоматериалов, в частности к нанесению светочувствительных покрытий на основу, и может быть использовано также в производ- стве магнитных лент и материалов для микроэлектроники.

Целью изобретения является повышение качества кинофотоматериалов.

На фиг.1 схематично изображено предлагаемое устройство, общий вид; на фиг.2 - поливная головка, подго- ловочный вал и примь1каю1дий к нему стол с пазами для подачи жидкости под основу кинофотоматериала; на фиг.З - разрез А-А на фиг.2.

Устройство содержит разматыватель 1 (фиг.1), тянущее устройство 2, поливную головку 3, подголовочный вал 4, короб 5 студенения, сушилку 6 тянущие рольганги 7 и 8 и наматыва- тель 9. Сушилка 6 имеет зону 10 подсушки, зону 11 интенсивного влагоудале ния и зону 12 кондиционирования. Устройство также включает в себя стол 13, примыкающий к подголовочному валу 4 и проходящий через короб 5 студенения и зону 10 подсушки. Стол 13 имеет поперечные пазы 14 (фиг.2 и 3) соединенные через отверстия 15, по- перечные 16 и продольный 17 каналы с источником химически нейтральной жидкости (например, обессоленной воды с антикоррозионными добавками). Вдоль краев стола 13 расположены лот- ки 18, соединенные с системой слива. Между столом 13 и тянущим рольгангом 7 установлен воздушный нож 19.

Устройство работает следующим об- разом.

Основа 20 кинофотоматериала (фиг.

1и 2) подается тянущим устройством

2с разматывателя 1 на подголовочный вал 4, проходит в зазор между подго- ловочным вало м и губой 21 наносящей головки 3, где на нее накладываются светочувствительные слои 22, формируемые головкой. Затем основа с покрытием попадает на стол 13. Вытекающая из канавок 14 жидкость создает между поверхностью стола и основой жидкостную пленку 23, препятствующую непо5

5

0 5

0

5 0

средственному контакту основы со столом и предотвращающую повреждение основы (появление царапин, потертостей и других дефектов). Проходя через короб студенения, покрытие 22 теряет текучесть, а в зоне подсушки из него удаляется часть влаги. Поскольку основа с покрытием движется от точки нанесения до конца зоны подсушки, опираясь на стол 13, покрытие 22 не испытывает на этом участке перегибов, характерных для движения по роликовому тракту. Отсутствие перегибов исключает смещение светочувствительных слоев друг относительно друга в жидком состоянии, а также разрыхление их в застудененном состоянии. На выходе из зоны подсушки воздушный нож 19 с основы жидкость, оставшуюся на ней в результате контакта с жидкостной пленкой 23. Затем основа с покрытием проходит зону 11 интенсивного влагоудале- ния, в которой фотоэмульсионные слои полностью высушиваются, и зону 12 кондиционирования, где их влажность доводится до необходимых значений. Затем готовый .кинофотоматериал рольгангом 8 вытягивается из сушилки и наматывается в рулоны наматывате - лем 9.

При использовании предлагаемого устройства повьшзается качество и увеличивается выход готовой продукции.

Формула изобретения

Устройство для нанесения светочувствительных покрытий на основу кинофотоматериалов, содержащее поливную головку, подголовочный вал, короб студенения, сушилку с зоной подсушки, влагоудаления и кондиционирования, о тличающееся тем, что, с целью повышения качества конофотоматериалов, оно дополнительно содержит примыкающий к подголовочному валу и проходящий через короб студенения и зону подсушки стол, на поверхности которого выполнены поперечные пазы, соединенные системой каналов с источником химически нейтральной жидкости.

20

Изобретение относится к производству кинофотоматериалов и позволяет повысить их качество. К подголовочному валу 4 устройства примыкает стол 13, на поверхности которого выполнены поперечные пазы 14, соединенные системой поперечных 16 и продольного 17 каналов. Вытекающая из пазов 14 химически нейтральная жидкость создает между поверхностью стола 13 и основой 20 кинофотоматериала жидкостную пленку 23, предотвращающую повреждение основы. Продвижение основы от точки нанесения покрытия 22 до конца зоны подсушки с опорой на стол 13 исключает перегибы покрытия, соответственно смещение светочувствительных слоев друг относительно друга и разрыхление их в застудененном состоянии. 3 ил. Л А,2г 2 «J гП fKudf(Ocm6 00 ;0 а фиг. 2

18

15

фиг./

.,1716

Т Жидкость

;в

фае. J