Расплав для электрохимического осаждения германиевых покрытий Советский патент 1989 года по МПК C25D3/66 

Изобретение относится к электроосаждению германиевых покрытий из солевьк расплавов и может быть использовано в радиоэлектронной промышленности.

Цель изобретения - расширение технологических возможностей способа и повыиение толгцшы покрытий.

Согласно изобретению расплав для электрохимического осаждения ерма- ниевых покрытий на подложки содержит германат натрия, триоксид вольфрама и вольфрамат натрия при следующем соотношении компонентов, мас.%: Германат натрия1,5-5,0

Триоксид вольфрама 1,2-2,0 Вольфрамат натрия Остальное Процесс электролитического получения германиевых покрытий из вышеуказанного расплава осуществляется при 900 С и плотности тока 0,01-0,05 А/см в атмосфере воздуха на молибденовой графитовой, никелевой и вольфрамовой подложках. Количество германата натрия в расплаве должно быть 1,5- 5 мас.%. При содержании германата натрия менее 1,5 мас.% металлический германий получается частично в порошковой форме, не сцепленной с катодом. Добавка германата натрия выше 5мас.% приводит к увеличению вязкости расплава и, в конечном счете, к ухудшению сцепления покрытий германия с подложкой.

Получение сцепленных с основой осадков германия позволяет получать пластины с покрытием германия нужной толщины (10-20 мкм) с параметром ре4;;;о со

Од

сх

CD

3U93689

шетки а 5,6563 А, что соответствует чистому материалу. Сцепление осадков

определялось по изгибу подпожк-i с осадком германия под углом до 90 .

Пример 1. Электролизом при 900°С на вольфрамовой подложке и . плотности тока 0,01 А/см получено покрытие германия толщиной 10 мкм из расплава следующего состава, мас.%: Германат натрия1,5

Трехокись вольфрама 1,2 Вольфрамат натрияОстальное

Получено сцепленное покрытие германи

Пример 2. Электролизом при на молибденовой подложке и плоности тока 0,025 А/см получено по- крытие германия толщиной 20 мкм.

Из расплава следующего состава, мас.%:

Германат натрия5,0

Трехокись вольфрама2,0

Вольфрамат натрияОстальное

Получено сцепленное покрытие германия .

Пример 3. Электролизом при 900°С на графитовой подложке и плотности тока 0,025 А/см получено покрытие германия толщиной 20 мкм из расплава следующего состава, мас.%: Германат натрия3,5

Трехокись вольфрама2,0.

Вольфрамат натрияОстальное

Получено сцепленное покрытие германия .

Пример 4. Электролизом при

900 С на молибденовой подложке и плотности тока 0,025 А/см получено покрытие германия толщиной 10 мкм из расплава следующего состава, мас.%: Германат натрия2,0

Трехокись вольфрама1,2

Вольфрамат натрияОстальное

Получено сцепленное покры тие германия.

Как видно из примеров изобретенный расплав дает возможность получать сцепленные- с основой покрытия на разных чужеродных подложках, толщиной 10-20 мкм, в то время как в известном расплаве вьфащиваются зпитакси- апьные слои германия толщиной от О,1 др I мкм на однородной подложке. Кроме того, процесс ведут на воздухе из менее агрессивного распл эра, чго упрощает аппаратурное оформление.

Формула изобретения

Расплав для электрохимического осаждения германиевых покрытий, содержащий соли германия и щелочного металла, отличающийся тем, что, с целью расширения технологических возможностей способа и повы- щения толщины покрытий, он допол- нительно содержит триоксид вольфрама, а в качестве солей германия и щелочного металла - германат натрия и . Вольфрамат натрия соответственно при следующем соотиощении компонентов, мае.%:

Германат натрия1,5-5,0

Триоксид вольфрама 1,2-2,0 Вольфрамат натрияОстальное

Изобретение относится к электроосаждению германиевых покрытий из солевых расплавов и может быть использовано в радиоэлектронной промышленности. Цель изобретения - расширение технологических возможностей способа и повышение толщины покрытия. Расплав для электрохимического осаждения германиевых покрытий на подложки содержит, мас. %: германат натрия 1,5-5,0

триоксид вольфрама 1,2-2,0

вольфрамат натрия остальное. Германиевые покрытия толщиной 10-20 мкм осаждают на подложки из молибдена, графита, никеля и вольфрама.