Способ дозированной подачи компонентов стекольной шихты Советский патент 1990 года по МПК C03B1/00 

Изобретение относится к стекольному производству и может быть использовано в различных отраслях народного хозяйства.

Целью изобретения является повышение точности и производительности процесса дозирования плохосыпучих материалов.

Пример. Величина массы заданной дозы М 1000 кг, количество циклов дозирования п 10, тогда масса

М части равна. 100 кг. Выбирают

п

дозатор с наибольшим пределом дозирования (НПД 125 кг) и наименьшим пределом дозирования (НмПД 12,5кг)

Погрешность дозирования для режима интенсивной подачи равна 10%, тогда за два цикла дозирования наибольшая величина отдозированной массы

сГ

foo

1ш.

макс п

+ 7Яп)(п - 2)

ел

со о

4;:

СП

880 кг.

При дозировании по предлагаемому способу после (п-2)-го цикла остает2Мся отдозировать величину ,

т:е. 120 2 . l.

Производят (п-1)-й цикл дозироваМния по заданию - - НмПД, получая

87,5 кг, а фактическая величина дозы может быть реализована с 10%-ной ошибкой, т.е. кг.

Таким образом, п-й цикл дозирования в соответствии с заданием М п. - 2 m . 23,5 кг, что больше НмПД

- fM .

Можно также на (п-1)-й цикл дать задание, равное половине оставшейся части дозы

n--t М -

1

m,

60 кг.

: - При Фактическом значении реализованной дозы, равной 70 кг, оставшая- ся часть дозы для последнего цикла

М П-

m

50 кг, т.е. больше, чем наименьший предел дозиро вания,

Способ дозированной подачи компо нентов стекольной шихты, включающи подачу дозы частями массой, равной частному от деления заданной массы дозы на число частей, определение

Осуществляя дозирование в cooTeet- о массы выгруженного материала после

ff. ...-....., f , .п f -чгч лr4lltll l n 3LJIj4O

ствии с известным способом в цикле (п-1) получают

подачи каждой части, вычисление ра ности между заданной массой дозы и массой выгруженного материала, кор ректирование массы последней части причем все части, кроме последней, подают в режиме интенсивной подачи отличающийся тем, что, с целью повышения точности и произ водительности процесса дозирования плохосыпучих материалов, определяю разницу между заданной массой и ма сой выгруженного материала перед подачей предпоследней части и при значении разности меньше удвоенног значения массы заданной части зада ние на отвес предпоследней части уменьшают на величину наименьшего предела.дозирования, а подачу последней части ведут вначале в режи интенсивной подачи, а затем замедл ной.

МЙКС

. -«-(,+ -fg)(„-,).

990 кг.

Следовательно .величина заданной дозы для последнего п-го цикла дозирования равна 10 кг. Полученная величина меньше наименьшего предела дозирования (12,5 кг), а следовательно, дозирование в соответствии с известным способом не приемлемо.

Таким образом, известный способ может быть использован только для дозирования хорошо сыпучих материалов, когда большие величины случайных погрешностей маловероятны. При дозировании плохосыпучих материалов на

Редактор И.Дербак

Составитель Т.Бу Техред Л.Олийнык

5

0

5

копленная величина погрешностей за (п-1) цикл будет такой величины, что для последнего цикла может выйти за критическую зону, ограничиваемую величиной наименьшего предела дозирования. Поэтому для плохо сыпучих материалов возможна организация процесса дозирования лишь в соответствии с предлагаемым способом.

Использование способа дает возможность повысить категорию шихты, качество вырабатываемого стекла и увеличить коэффициент использования сырьевых материалов на 0,5%. В результате питания ванных печей однородной по химическому составу шихтой выход стекла 1-го сорта увеличивается на 1%,а также повышается производительность за счет подачи последней.

формула изобретения

Способ дозированной подачи компонентов стекольной шихты, включающий подачу дозы частями массой, равной частному от деления заданной массы дозы на число частей, определение

массы выгруженного материала после

...., f , .п f -чгч лr4lltll l n 3LJIj4O

подачи каждой части, вычисление разности между заданной массой дозы и массой выгруженного материала, корректирование массы последней части, причем все части, кроме последней, подают в режиме интенсивной подачи, отличающийся тем, что, с целью повышения точности и производительности процесса дозирования плохосыпучих материалов, определяют разницу между заданной массой и массой выгруженного материала перед подачей предпоследней части и при значении разности меньше удвоенного значения массы заданной части задание на отвес предпоследней части уменьшают на величину наименьшего предела.дозирования, а подачу последней части ведут вначале в режиме интенсивной подачи, а затем замедленной.

Корректор С.Черни

Изобретение относится к технологии приготовления стекольной шихты, может быть использовано и в других процессах смесеприготовления. Изобретение позволяет повысить точность и производительность процесса дозирования плохосыпучих материалов. Заданная масса компонента подается в смеситель частичными дозами массой, равной частному от деления величины заданной массы на число частичных доз. В случае, если разность между заданной массой дозы и массой выгруженного материала меньше удвоенного значения массы частичной дозы, задание на отвес предпоследней частичной дозы уменьшают на величину наименьшего предела дозирования, а оставшуюся часть дозы формируют в режимах интенсивной, а затем замедленной подачи. Все предыдущие части подают в интенсивном режиме.