Способ изготовления фокусатора Советский патент 1991 года по МПК G02B5/10 

Изобретение относится к оптическому приборостроению и может применяться при изготовлении оптических элементов (зеркал, фокусаторов) улучшенных эксплуатационных свойств.

Целью изобретения является повышение точности фокусировки излучения в заданную область.

Фокусатор выполнен в виде цельнометаллической отражающей пластины толщиной 4-5 мм с микрорельефной структурой поверхности, определяемой в зависимости от назначения. Выступы микрорельефа выполнены с высотой, изменяющейся от основания выступа к его вершине.

Форма рельефа рассчитывается по формуле

2COS Q + v2

- 4f

Z(

Г u2

.u,v) I

U

( ucosQ-sinoO2f l

x(jpdjr cos0cosoi+ vsin & ---7,- +

1 Jcos б

Ј

Ј

00

эо

±(JR2 - u2 - v2),

где у„

u,+ fcosS . . -д.sinoc+ v(cosft5cos Q

uzfsinQ . ..

c5Sfl sin06 + vcosp ;

Z(u,v) - высота рельефа в точке (u,v) оптического элемента,

u,v - координаты точки элемента в системе координат с осью Ои, направленной противоположно проекции падающего луча, и началом в центре элемента, расположенного в области u2cos6 + v24 R2 , 0 - угол падения фокусируемого

Формула изобретения

Способ изготовления фокусатора, заключающийся в изготовлении рельефа, соответствующего расчетной зависимости, из неметаллического материала,

u;v;

проведении этапов вакуумного напыления и электролитического наращивания гальванокопии в сернокислом электропучка на оптический элемент, 10 лите, содержащем CuS04-5H20 в количестве 200-250 г/л, в количестве 70-80 г/л, при плотности тока 2-3, Л/дм2, температуре электролита 30- 40ЙС, отличающийся тем, что, с целью повышения точности фокусировки излучения в заданную область, изготавливаемый рельеф соответствует зависимости

т.е. угол между падающим лучом и нормалью к плоскости оптического элемента,

f - фокусное расстояние элемента,15

(i

- 1,2) - координаты концов проекции

отрезка, в который проводится фокусировка, на плоскость оптического элемента,JQ

0 - угол поворота отрезка, в который производится фокусировка относительно оси Ои на фокальную плоскость, перпендикулярно отраженному лучу, 25

R - радиус кривизны поверхности фокусатора.

Знак + имеет место при наличии в объеме электролитических осадков внут-Ю ренних напряжений растяжения, знак - - внутренних напряжений сжатия.

Процесс электролитического наращивания гальванокопии осуществляется в 35 два этапа, например, со следующими режимами:

Чатяжка слоя осуществляется в электролите, .г/л:№

CnS04-5H20170

при плотности тока 1,2 А/дм2 и температуре 20°С, а основной металл получается в электролите, г/л:

Си304-5НгО250

Н ЗОф80

при плотности тока 4 А/дмг и температуре 35°С.

45

Z(u,v) f(u,v) ± ( -и2 -v2 +R),

где Z(u,v) - высота рельефа рабочей поверхности в точке (u,v) оптического элемента,

f(u,v) - расчетная аналитическая зависимость для осуществления фокусировки излучения в заданную область пространства,

u,v - координаты точки элемента с началом координат в его центре,

R - оадиус кривизны поверхности фокусатора,

при этом знак + имеет место при наличии в объеме электролитических осадков внутренних напряжений растл- жения, знак - - внутренних напряжений сжатия, причем после этапа вакуумного напыления дополнительно проводят этап увеличения токопроводягаего слоя в сернокислом электролите, содержащем Си504-5Н О в количестве 150- 170 г/л, . в количестве ./--50 г/л, при плотности тока 1-1,2 А/дм2, температуре электролита 18-20°С, а заключительный этап электролитического наращивания гальванокопии проводится при воздушном перемешивании электролита.

Формула изобретения

Способ изготовления фокусатора, заключающийся в изготовлении рельефа, соответствующего расчетной зависимости, из неметаллического материала,

5

Z(u,v) f(u,v) ± ( -и2 -v2 +R),

где Z(u,v) - высота рельефа рабочей поверхности в точке (u,v) оптического элемента,

f(u,v) - расчетная аналитическая зависимость для осуществления фокусировки излучения в заданную область пространства,

u,v - координаты точки элемента с началом координат в его центре,

R - оадиус кривизны поверхности фокусатора,

при этом знак + имеет место при наличии в объеме электролитических осадков внутренних напряжений растл- жения, знак - - внутренних напряжений сжатия, причем после этапа вакуумного напыления дополнительно проводят этап увеличения токопроводягаего слоя в сернокислом электролите, содержащем Си504-5Н О в количестве 150- 170 г/л, . в количестве ./--50 г/л, при плотности тока 1-1,2 А/дм2, температуре электролита 18-20°С, а заключительный этап электролитического наращивания гальванокопии проводится при воздушном перемешивании электролита.

Изобретение относится к оптическому приборостроению и может применяться при изготовлении оптических элементов (зеркал, фокусаторов) улучшенных эксплуатационных свойств. Изобретение позволяет повысить точность фокусировки излучения в заданную область. Способ заключается в изготовлении рельефа, соответствующего расчетной зависимости, в которую входит поправка, связанная с искажением рельефной поверхности фокусатора, обусловленным наличием в объеме электролитических осадков внутренних напряжений, проведении вакуумного напыления и электролитического наращивания гальванокопии в два этапа с определенными режимами. Второй этап электролитического наращивания выполняется при воздушном перемешивании электролита. т

Редактор Н.Швыдкая

Составитель Н.Киреева Техред М.Дидык

Заказ 1520

Тираж 341

РЧИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР 113035, Москва, Ж-35, Раушская наб.„ д. 4/5

Корректор Н.Ревская

Подписное