название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Способ изготовления многослойных тонкопленочных резисторов | 1982 |
|
SU1115113A1 |
СПОСОБ ЛАЗЕРНОЙ ПОДГОНКИ ПЛЁНОЧНЫХ ЭЛЕМЕНТОВ ИНТЕГРАЛЬНЫХ СХЕМ | 2002 |
|
RU2232441C1 |
Способ изготовления тонкопленочного резистора | 2018 |
|
RU2700592C1 |
Способ подгонки сопротивления тонкопленочного резистора | 1979 |
|
SU1020869A1 |
Способ изготовления тонкопленочного прецизионного резистора | 2022 |
|
RU2818204C1 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПЛЕНОЧНЫХ РЕЗИСТОРОВ | 2007 |
|
RU2339104C1 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ РЕЗИСТОРОВ | 2014 |
|
RU2568812C1 |
СПОСОБ ЛАЗЕРНОЙ ПОДГОНКИ ПЛЕНОЧНЫХ ЭЛЕМЕНТОВ ИНТЕГРАЛЬНЫХ СХЕМ | 2004 |
|
RU2276419C1 |
СПОСОБ ПОДГОНКИ ВЕЛИЧИНЫ СОПРОТИВЛЕНИЯ ПЛЕНОЧНЫХ РЕЗИСТОРОВ | 1999 |
|
RU2158979C1 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ТОНКОПЛЕНОЧНОГО ТЕРМОРЕЗИСТОРА | 1996 |
|
RU2133514C1 |
1. Способ лазерной подгонки прецизионных тонкопленочных резисторов, включающий изготовление тестовых образцов резисторов на диэлектрической подложке, нанесение пробных резов перпендикулярно направлению линий тока тестовых резисторов с использованием различных режимов лазерного излучения, определение зависимости величины удельного поверхностного сопротивления утечки резов от мощности лазерного излучения, выбор оптимального режима работы лазерного излучения путем сравнения полученной величины сопротивления утечки резов на тестовых образцах с заданной величиной и подгонку номиналов тонкопленочных резисторов путем нанесения лазерных резов параллельно линиям тока в выбранном режиме, отличающийся тем, что, с целью повышения временной стабильности номиналов тонкопленочных резисторов, изготовление тестовых образцов осуществляют напылением в едином цикле с подгоняемыми резисторами, перед определением зависимости величины удельного поверхностного сопротивления утечки резов от мощности лазерного излучения измеряют величину удельного поверхностного сопротивления утечки реза непосредственно после его нанесения, осуществляют выдержку тестовых резисторов в нормальных условиях в течение времени, необходимого для прекращения дрейфа их сопротивления, после чего измеряют полученную величину удельного поверхностного сопротивления утечки резов тестовых резисторов, а оптимальный режим лазерного излучения выбирают из условия получения реза с величиной удельного поверхностного сопротивления утечки реза, меньшей величины удельного поверхностного сопротивления материала диэлектрической подложки, но большей минимально допустимой заданной величины удельного поверхностного сопротивления утечки реза.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что минимально допустимую заданную величину удельного поверхностного сопротивления утечки реза выбирают из соотношения
где ρм - минимально допустимая заданная величина удельного поверхностного сопротивления утечки реза, Ом/кв;
Rн - сопротивление подгоняемого резистора до подгонки, Ом;
Rп - требуемое (номинальное) сопротивление подгоняемого резистора, Ом;
Rк - сопротивление, превышающее Rп на величину допустимого изменения сопротивления резистора за счет дрейфа сопротивления подгоночного реза, Ом;
ρн - удельное поверхностное сопротивление утечки реза, измеренное непосредственно после его нанесения, Ом/кв;
ρк - удельное поверхностное сопротивление утечки реза, измеренное после выдержки тестового резистора в нормальных условиях и окончания дрейфа сопротивления реза, Ом/кв;
ρпл - удельное поверхностное сопротивление резистивной пленки, Ом/кв.
Авторы
Даты
1999-10-10—Публикация
1989-08-22—Подача