Устройство для нанесения покрытия на конденсаторы с осевыми выводами Советский патент 1992 года по МПК H01G13/00 

-В

Фиг. 4

Изобретение относится к электронной технике и может быть использовано в производстве керамических конденсаторов с осевыми выводами, имеющих цилиндрическую форму с уступами и выступами с разницей в диаметрах.

Известно устройство для нанесения покрытия на конденсаторы с осевыми выводами, содержащее вращающийся ролик, частично погруженный в ванну с материалом покрытия, и механизм транспортировки конденсаторов в виде цепного транспортера.

Недостатком устройства является его непригодность для нанесения покрытия на конденсаторы сложного профиля.

Наиболее близким по технической сущности и достигаемому эффекту является устройство для нанесения покрытия на конденсаторы с осевыми выводами, содержащее барабан в виде двух вращающихся роликов, профиль которых является зеркальным изображением профиля конденсатора, ванну с материалом покрытия, механизм удаления излишков материала покрытия также в виде барабана, имеющего тот же профиль, что и первый барабан, механизм транспортировки и привод.

Известное устройство не обеспечивает высокого качества нанесения покрытия на конденсаторы цилиндрической формы с осевыми выводами и припаянной резьбовой втулкой, например, типа Б-14 и ОСБ-14 из-за невозможности нанести покрытие на труднодоступных участках керамической втулки конденсатора под резьбовой втулкой. Кроме того, собираемые детали конденсаторов этого типа имеют большие допуски, что при постоянстве ширины барабана нанесения покрытия приводит к недо- покрытию поверхности конденсатора или натеку материала покрытия на резьбовую втулку и выводы. Внутри керамической втулки конденсаторов этого типа проходит фер- ритовый стержень, имеющий магнитные свойства.

Целью изобретения является расширение технологических возможностей и улучшение качества покрытия.

В устройстве для нанесения покрытия на конденсаторы с осевыми выводами, содержащем механизм транспортирования, наносящий ролик ступенчатой формы, ванну для материала покрытия и приводной механизм, ступени наносящего ролика выполнены коническими и снабжены феррито- вымимагнитнымикольцами,

установленными в ступенях ролика с возможностью магнитного взаимодействия с обрабатываемыми конденсаторами, а приводной механизм снабжен дисковым кулачком, кинематически связанным с наносящим роликом с возможностью периодического опускания ролика в ванну с

покрытием.

На фиг. 1 представлено устройство, вид сверху; на фиг. 2 - то же, вид спереди; на фиг. 3 - то же, вид сбоку; на фиг. 4 - разрез А-А на фиг. 1; на фиг. 5 - устройство, аксо0 нометрия; на фиг. 6- кинематическая схема устройства.

Рассмотрим устройство для нанесения эмали на керамические конденсаторы цилиндрической формы с осевыми выводами и

5 припаянной резьбовой стулкой типа Б-14 и ОСБ-14, которое содержит (фиг. 1 и 4) основание 1, на котором жестко закреплена направляющая2механизматранспортирования кассет 3 с конденсато0 рами 4, наклонно лежащими в прорезях 5

кассет 3 под углом 15° для перемещения

конденсаторов 4 в осевом направлении

вниз под действием собственного веса.

Ориентирующая планка 6 установлена

5 под углом к направлению движения кассет 3. Механизм нанесения покрытия состоит из ролика 7 ступенчатой формы и ванны 8 для материала покрытия. Угол наклона образующих рабочих поверхностей конических

0 ступеней ролика 7 равен углу наклона конденсаторов 4 в кассете 3.

Внутри конических ступеней ролика 7 установлены ферритовые магнитные кольца 9, обеспечивающие прижатие конденсато5 ров 4 к рабочим поверхностям конических ступеней ролика 7. Механизм удаления излишков материала покрытия выполнен в виде двух Г-образныхскоб 10, торцы которых установлены с зазорами а и б относительно

0 рабочих поверхностей конических ступеней ролика 7, регулируемыми винтами 11 и плоскими пружинами 12, а цилиндрическая пружина 13 служит для прижатия боковых сторон скоб 10 к внутренним поверхностям

5 в ролика 7, что обеспечивает снятие с них эмали.

Привод устройства (фиг. 2 и 4) включает шкиф 14, который служит для вращения кулачковой шайбы 15, сидящей на одной с ним

0 оси 16 и имеющей участки с двумя различными радиусами RI и R2, при этом профиль меньшего радиуса RI выполнен на участке, ограниченном углом 90°, и служит при помощи обрезиненного ролика 17 для опускания

5 вращающегося ролика 7 в ванну 8 и для одновременного перемещения кассеты 3 от эксцентрика 18 кулачковой шайбы 15 через ползун 19, расположенный на рычаге 20, закрепленном на оси 21, в верхней части которого выполнен продольный паз 22, в

котором расположен палец 23 ползуна 24, другой конец которого заходит в прорезь 5 кассеты 3. Профиль большего радиуса R2 служит для нанесения эмали на конденса- тор 4 вращающимся роликом 7.

Устройство работает следующим образом.

Кассета 3 с конденсаторами 4 устанавливается в устройство и пошагово пере- мещается пальцем 23, заходящим поочередно в ее прорези, причем шаг перемещения равен шагу расположения конденсаторов 4 в кассете 3.

Перемещение кассеты 3 обеспечивает- ся при повороте на угол 90° эксцентрика 18 от нижней мертвой точки, совпадающей с началом вращения ролика 17 по профилю меньшего радиуса RI шайбы 15, за счет ползуна 19, поворачивающего рычаг 20 относи- тельно оси 21, который своим продольным пазом 22 перемещает палец 23 ползуна 24.

Одновременно с перемещением кассеты 3 обрезиненный ролик 17 вращается по профилю меньшего радиуса RI кулачковой шайбы 15, при этом вращающийся ролик 7 опущен в ванну 8 с эмалью, а торцами Г-об- разных скоб 10 регулируется количество эмали на рабочих поверхностях конических ступеней ролика 7 за счет зазоров а и б между ними и обеспечивается снятие эмали с внутренних поверхностей в ролика 7 прижатыми к ним боковыми сторонами скоб 10.

При движении конденсаторов 4 к вращающему ролику 7 ориентирующая планка 6 взаимодействует с торцовой поверхностью Б шестигранника резьбовой втулки, перемещая конденсаторы 4 в осевом направлении вверх на величину максимального суммарного допуска керамической втулки и вывода (до 2 мм) относительно торца В резьбовой втулки, что обеспечивает базирование торца В резьбовой втулки конденсаторов 4 в процессе нанесения покрытия относительно вращающегося ролика 7.

При повороте кулачковой шайбы 15 на угол 90° обрезиненный ролик 17, поднимаясь на профиль большего радиуса R2 шайбы 15, выводит палец 23 из прорези 5 кассеты 3, а вращающийся ролик 7 поднимается из ванны 8 до соприкосновения с поверхностью конденсатора 4. При этом для устранения влияния биения выводов в процессе нанесения покрытия конденсатор4 приподнимается роликом 7 в прорезях кассеты 3.

Нанесение эмали осуществляется как на участки конденсатора 4, прокатываемые по рабочим поверхностям конических ступеней вращающегося ролика 7, так и на участки конденсатора 4, которые не находятся в контакте с роликом 7 за счет вытеснения регулируемого слоя эмали на эти участки конденсатора 4 с рабочих поверхностей конических ступеней ролика 7. Вытеснение эмали осуществляется вращением конденсатора 4, прижатого за счет взаимодействия с ферритовыми магнитными кольцами 9 к рабочим поверхностям конических ступеней ролика 7, а управление этим процессом происходит за счет регулирования величины зазоров а и б между рабочими поверхностями конических ступеней ролика 7 и торцами Г-образных скоб 10 при одновременном удалении эмали с внутренних поверхностей в ролика 7 этими же скобами 10.

При дальнейшем повороте кулачковой шайбы 15 на угол 270° происходит нанесение эмали за счет вращения конденсатора 4 вращающимся роликом 7. В это время палец 23 ползуна 24, выйдя из прорези 5 кассеты 3, совершает возвратно-поступательное движение, пока эксцентрик 17 не займет исходное положение в нижней мертвой точке, в котором за счет профиля меньшего радиуса RI шайбы 15 палец 23 опять войдет в зацепление со следующей прорезью 5 кассеты 3 для перемещения ее еще на один шаг.

Таким образом, использование предлагаемого устройства по сравнению с извест- ным позволяет повысить качество нанесения покрытия на конденсаторы сложного профиля с труднодоступными участками под резьбовой втулкой, исключив недопокрытие и натеки материала покрытия на резьбовую втулку и выводы.

Формула изобретен и-я

Устройство для нанесения покрытия на конденсаторы с осевыми, выводами, содержащее механизм транспортирования, наносящий ролик ступенчатой формы, ванну для материала покрытия, отличающееся тем, что, с целью расширения технологических возможностей и улучшения качества покрытия, ступени наносящего ролика выполнены коническими и снабжены ферритовымимагнитнымикольцами, установленными в ступенях ролика с возможностью магнитного взаимодействия с обрабатываемыми конденсаторами, а приводной механизм снабжён дисковым кулачком, кинематически связанным с наносящим роликом с возможностью периодического опускания ролика в ванну для материала покрытия.

Использование: изобретение может быть использовано в производстве керамиРерритодый магнитный А-А стержень ческих к или ОС форму с диаметр рение т улучшен за счет т выполне ритовым щенным с обраб ются ср лика в в ческих конденсаторов, например, типа Б-14 или ОСБ-14, имеющих цилиндрическую форму с уступами и выступами с разницей в диаметрах. Сущность изобретения: расширение технологических возможностей и улучшение качества покрытия достигается за счет того, что ступени наносящего ролика выполнены коническими и снабжены фер- ритовыми магнитными кольцами 9, размещенными с возможностью взаимодействия с обрабатываемыми конденсаторами. Имеются средства периодического окунания ролика в ванну с материалом покрытия, 6 ил.