Установка для экспонирования фотополимеризующихся пластин Советский патент 1992 года по МПК G03F7/20 

Изобретен относится к полиграфической промышле нности и может быть испол ьзо- вановтехнологическомпроцессеизготовления фотополимерных печатных форм.

Известна установка для экспонирования фотопол йеризующихся пластин, содержащая облучатель вакуумный пластинодерхэтель и затвор .

Данная установка обеспечивает необходимые режимы экспонирования фотопо- лимеризующихся пластин Однако она может быть использована исключительно в технологичессом процессе изготовления фотополимерннх печатных с1орм.

Наиболее близкой по технической сущности к изобретению является установка для экспонирования фотополимеризующих- ся пластин ФЭТ-70.

Облучатель в данной установке выполнен на основе люминесцентных ламп ультрафиолетового излучения.

Однако указанная установка не позволяет осуществить контактное экспонирование отдельных светочувствительных материалов, например серебросодержащих фотопленок.

Целью изобретения является расширение эксплуатационных возможностей

vj 00

О О О

Указанная цель достигается тем, что установка для экспонирования фотополиме- ризующихся пластин, содержащая облучатель с люминесцентными лампами ультрафиолетового излучения, вакуумный пластинодержатель и затвор, снабжена размещенным над вакуумным пластинодержа- телем перпендикулярно; направлению светового потока еве токЪр$ектирующим экраном, выполненным в виде последовательно расположенных друг за другом светорассеивателя в виде матовой стеклянной пластины или матированной полимерной пленки, стеклянного или пленочного светофильтра, отсекающего излучение с длиной волны менее 380 нм, и светонепроницаемого основания в виде листа с группой идентичных сквозных отверстий диаметром в диапазоне от 10 до 30 мм, размещенных на поверхности основания в шахматном порядке с расстоянием между центрами двух рядом расположенных сквозных отверстий в диапазоне от 50 до 200 мм соответственно, этот затвор выполнен в виде листа из материала, идентичного материалу основания, и с группой сквозных идентичных отверстий диаметром в диапазоне от 4 до 20 мм, причем группа идентичных отверстий затвора расположена соответст-. венно сквозным отверстиям основания, а расстояние между центрами двух рядом расположенных сквозных отверстий затвора равно расстоянию между центрами соответствующих им сквозных отверстий основания, при этом затвор размещен между облучателем и светокорректирующим экраном с возможностью возвратно-Поступательного перемещения параллельно плоскости основания светокорректирующего экрана.

На фиг, 1 изображена схема экспонирующей установки; на фиг. 2,3- схемы светокорректирующего экрана с затвором соответственно, в рабочем и нерабочем положениях; на фиг. 4, 5 - горизонтальные проекции соответственно затвора и основания.

Установка содержит облучатель 1, све- токорректирующий экран 2, вакуумный пластинодержатель 3, а также отражательный - экран 4, размещенный над люминесцентными лампами облучателя 1, и установленный под пластинодержателем 3 вакуумный насос 5 с вакуумметром 6. Светокорректирую- щий экран 2 включает в себя затвор 7, светорассеиватель 8, светофильтр 9 и основание 10.

Установка работает следующим образом.

На вакуумном пластинодержателе 3 размещают фотопленку, накладывают на

нее подготовленный для переконтакта позитивный монтаж (не показано), всю поверхность вакуумного пластинодержателя 3 покрывают полиэтилентерефталатной пленкой толщиной 70 мкм, включают вакуумный насос 5. Надежность вакуумирования контролируют по показанию вакуумметра б и визуально, по отсутствию карманов и пузырей между пленкой и вакуумным пластино0 держателем 3. Затвор 7 устанавливают в нерабочее положение (см.фиг. 3), включают люминесцентные лампы облучателя 1, контролируют визуально их зажигание, затем переводят затвор 7 в рабочее положение

5 (см.фиг. 2) и проводят экспонирование в течение выбранного времени. По окончании экспонирования затвор 7 переводят в нерабочее положение (см.фиг. 3), отключают лампы облучателя 1, прекращают

0 вакуумирование, удаляют с вакуумного пластинодержателя -3 полиэтилентерефталат- ную пленку, снимают монтаж и проэкспонированную фотопленку, которую проявляют, промывают и высушивают в

5 стандартных для данного вида фотопленки условиях. Получают негатив, пригодный для. использования в качестве фотоформы при изготовлении фотополимерных печатных форм.

0 Для изготовления фотополимерных печатных форм светокорректирующий экран 3 с затвором 7 снимается. Использование установки без светокорректирующего экрана 3 с затвором 7 для экспонирования высоко5 чувствительных по сравнению с фотополи- меризующимися материалами сереб-Р росодержащих фотопленок не может/ обеспечить получение качественных фотоформ из-за большой мощности излучения

0 люминесцентных ультрафиолетовых ламп облучателя 1.

Величина сквозных отверстий в затворе 7 и основании 10 и расстояние между центрами соседних двух отверстий выбирается

5 исходя из формата вакуумного пластинодержателя 3, мощности потока излучения и конкретной конструкции установки.

Применение данной установки позволяет иметь в типографии одну единицу обору0 дования, на которой можно проводить экспонирование серебросодержащих фотопленок, бессеребряных светочувствительных материалов и фотополимеризующихся пластин, а также других фотополимеризую5 щихся формных материалов для получения офсетных форм и копий для травления. Ф о р м у л а и з о б р е т е н и я Установка для экспонирования фотополимеризующихся пластин, содержащая облучатель с люминесцентными лампами

ультрафиолетового излучения, вакуумный пла- стинодержатель и затвор, отличающаяся тем, что, с целью расширения эксплуатационных возможностей, она снабжена размещенными над вакуумным пластинодержателем перпендикулярно к направлению светового потока светокорректирующим экраном, выполненным в виде последовательно расположенных друг за другом светорассеи- вателя в виде матовой стеклянной пластины или матированной полимерной пленки, стеклянного или плёночного светофильтра, отсекающего излучение с длиной волны менее 380 нм, и светонепроницаемого основания в виде листа с группой идентичных сквозных отверстий диаметром в диапазоне от 10 до 30 мм, размещенных на поверхности основания в шахматном порядке с расстоянием между

0

5

центрами двух рядом расположенных сквозных отверстий в диапазоне от 50 до 200 мм, соответственно, при этом затвор вы пол нен в виде листа из материала, идентичного материалу основания, и с группой сквозных идентичных отверстий диаметром в диапазоне от 4 до 20 мм, причем группа идентичных отверстий затвора расположена соответственно сквозным отверстиям основания, а расстояние между центрами двух рядом расположенных сквозных отверстий затвора равно расстоянию между центрами соответствующих им сквозных о тверстий основания, при этом затвор размещен между облучателем и светокорректирующим экраном с возможностью возвратно-поступательного перемещения параллельно плоскости основания светокорректирующего экрана.

Использование: технологические процессы изготовления фотополимерных печатных форм Сущность изобретения: установка снабжена светокорректирующйм экраном, размещенным между облучателем и вакуумным плаетинодержателем. Свето- корректирующий экран выполнен в виде расположенных друг за другом сееторассе- ивателя, светофильтра, отсекающего излучение длиной волны менее 380 нм, и основания из листа с группой идентичных сквозных отверстий диаметром от 10 до 30 мм, размещенных нп поверхности основания в шах-. матном порядке, а затвор установлен между облучателем и экраном и выполнен из материала, идентичного материалу основания, и с группой сквозных идентичных отверстий в диапазоне от 4 до 20 мм. При работе установки затвор перемещается параллельно плоскости основания светокорректирующе- го Экрана, тем самым отверстия затвора либо располагаются соосно отверстиям основания, обеспечивая прохождение света от1 облучателя к материалу размещенному на пластинод ержателе, либо смещаются от- носительно отверстий основания, перекрывая доступ света на материал. 5 ил

4

X

Ж Я Я2ХЯ% %Я&5

-/

1

фиг.З

(ригА

10

фие.5