Устройство для лужения плоских поверхностей Советский патент 1993 года по МПК B23K3/06 

Изобретение относится к пайке и может быть использовано в полупроводниковой, : радиоэлектронной, приборостроительной и других отраслях промышленности; , ч К

Целью изобретения является обёспёче ние точности и качества нанесения дозы ;припоя. ... V :;; : ..;;;;-:: .л На фиг. 1 схематично изображено устг- ройство для локального лужёнй:я плббкйх поверхностей в разрезе; на фиг. 2 то же, ; вид сверху (ультразвуковой паяльник не Показан). . - , . ; : :, ..Ј:

УстройстЁо для лужения плоских Лбвёр-; хностей содержит: нагреватель 1, йанну 2 со X; ступицей 3, зафиксированную, на беи 4:6 помощью винта 5. В ванне 2 кдакбйально; ; размещена перегородка 6 в виде кольца с отверстиями , выполненными по рбразую- щей, разделяющая ванну 2 на рабочую 8 и.. .- вспомогательную 9 емкости: Высота перегородки равна высоте наружной стенки ванны- 2. Между верхними кромками перегородки - 6 и ванны 2 и нижней торцевой поверхностью ультразвукового паяльника 10 предус : мотрен регулируемый зазор., величина кото- :; рого зависит от оптимальной величины дозы

припоя, наносимой паяльником 10 на обра батыёаемрё изделие 11 (например, выводную рамку). . ., ; ;. ;, V

;- .; Б рабочей емкости 8 размещена гребен- .№ для сбЬра окисной-- пленки припоя. Наружная стенка ванны 2 выполнена в виде i храпового колёса 13, взаимодействующего ,-,.:с собачкой 14, связанной с приводом 15. ; . Устройство работает следующим Ьбра-. %ёйм. :- :: -;.;; ;;-: . /; - ;;;;. : ;; ;:;Кг При поМощи нагревателя 1 нагревают ;: припой, находящийся в ванне 2. Включают привод 5 и собачка 4; взаимодействуя с храповым колесом 3, вращает ванну 2 с рас- плавленным припоем. При этом гребенка 12, задерживает ркисйую пленку, образующуюся на поверхности расплавленного при-, . по:я в.рзбочей емкс)стй 8; ..,,: Включают механизм (не показан) neper мёщенйя ультразвукового паяльника 10,

траектория движения которого показана на : фиг. 1. Паяльник перем ещается в горизон-(Л

00

«Л

ел о ел

тэльной плоскости над ванной 2-й опускается в нижнее положение, погружаясь в расплавленный припой в рабочей емкости 8 на заданную глубину,

При подъеме паяльника 10 вверх и выходе из припоя, на его торцевой поверхности остается доза припоя , величина которой больше, -чем требуется для локального точечного лужения обрабатываемой поверхности изделий, например, выводной рамки корпуса транзистора; . ;

После подъема паяльник 10 с дозой припоя на рабочей поверхности осуществляет перемещение в горизонтальной плоскости над ванной 2 и кольцевой перегородкой б и опускается на рабочую позицию.

При этом величина дозы припоя, наносимого на обрабатываемую поверхность, регулируется, величиной зазора между торцевой, частью паяльникам верхней кромкой перегородки б.и наружной стенки ванны 2, позйОляющих снимать его излмшки-с торцевой поверхности инструмента. ;

Применение устройства для локального лужения плоских поверхностей данной конструкции позволит:

регулировать величину дозы припоя; повысить качество лужения за счет снятия с внешнего поверхностного слоя-капли припоя вместе с излишками припоя-пленки окисла и включений загрязнений;

обеспечить зазор припоя из ванны со стабильной, определенной дозой/

Формула изобретения Устройство для лужения плоских поверхностей, содержащее ванну для расплавленного припоя, нагреватель и механизм для снятия окислов, о т л и ч а ю щ ее с я тем, что, с целью обеспечения точности и

качества нанесения дозы припоя, ванна выполнена в виде двух установленных на одной оси, поворотных коаксиальных колец с равновысокимй стенками,- а механизм для снятия окислов жестко закреплен на оси ванны. v

Использование: пайка и лужение изделий в полупроводниковой, радиоэлектронной, приборостроительной отраслях; промышленности. Сущность изобретения: устройство содержит ванну для расплавленного припоя, выполненную в виде двух коаксиальных колец-с равнов ысокиМи стенками, установленных на. одной оси. Ванна размещена с возможностью вращения. Механизм для снятия окислов жестко закреплен на оси ванны. 2 ил. :