Позитивный фоторезист Советский патент 1993 года по МПК G03F7/23 

сосредневесовой мол. мае. Mw 7000-17000 и полидисперсностью . температурой каплепадения 150-160° С. п-б-12,1 в качестве светочувствительного компонента, содержит или смесь 1.2-нафтохинондиазид- (2)-5-сульфоэфира 2.4-диоксибензофенона формулы II

I О

где X - водород или D - нафтохинондиазид- ная группа (HXD-группа), с массовой долей НХО-групп 58-68%.

и 1.2-нафтохинондиаэид-(2)-5-сульфоэфира 2,2 , 4,4 -тетрэоксибензофенона формулы III

ох ох оо-(бУсо-(оУ-ох

где X - водород, или D-HXD-группа с массовой долей НХО-групп 55-65%, или смесь 1.2-нафтохинондиазид-{2)-5-суль- фоэфира 2,4-диоксибензофенона формулы II, 1,2-нафтохинондиазид-(2)-5-сульфоэфи1- ра 2,2 .4,4 -тетраоксибензофенона формулы 111 и 1.2-нафтохинондиазид. - (2)-5-сульфоэ- фира метилен-бис(2,4-диоксибензофено- на) формулы IVODQx

где X - водород или D-HXD-rpynna. с массовой долей НХО-групп 40-55%, дополнительно содержит кремнийоргани- ческий блокосополимер лапрола с полиал- килсилоксаном формулы V

I О

0

5

0

5

0

5

0

5

со средневесовой мол. м. М лгЮОООО- 200000, в качестве органического растворителя она содержит смесь метилового эфира ацетатэтиленгликоля (МЦА) и ксилола или смесь метилового эфира ацетатэтиленгликоля, диметилового эфира диэтиленгликоля (диглим) и ксилола при следующем соотношении компонентов, мас.%:

Крезолформальдегидная смола новолачного типа марки СФ-142Б-18.1-21.75

смесь: 1,2-нафтохинондиа- зид-(2)-5 Сульфоэфира 2,4-диоксибензофенона формулы И -3,7-5.8;

1,2-нафтохинондиазид-{2)-5- -сульфоэфир 2.2 . 4.4 -тетраоксибензофенона

формулы III -3.8-5.4;

или смесь: 1,2-нафтохинон- диазид-(2)-5-сульфоэфир 2,4-диоксибензофенона формулы II1,3-1,57;

1,2-нафтохинондиазид-(2)-5- -сульфоэфир 2,2 , 4.4 -тетраоксибензофенона

формулы III -3,14-5.2;

1,2-нафтохинондиаэид-(2)-5- -сульфоэфир метилен-бис (2.4-диоксибензофенона) формулы IV -. 3.8-5,4;

крем нийорганйческий блок - сополимер лапрола с полиал- килсилоксаном

формулы V0,015-O.OS;

ксилол3,45-4.97;

МЦА-Остальное;

или диглим -5,52-7,10;

ксилол -3,45-4.97:

МЦА -Остальное.

Область использования: в микроэлектронике. Сущность изобретения: позитивный фоторезист содержит, мас.%: крезолоформальдегидная смола новолачно- готипа марки СФ-142Б 18,1-21,75; 1.2-наф- тохинондиазид-(2)-5-сульфоэфира 2,4-диоксибензофенона, 3,7- 5,3: 1.2-нафто- хинодиаэид-{2}-5-сульфоэфир 2.2 , 4,4 -тет- раоксибензофенона 3.8-5,4 или смесь 1,2-нафтохинондиаэид-(2)-5-сульфоэфир 2,4-диоксибензофенона 1,3-1,57 и 1,2-наф- тохинондиазид-(2)-5-сульфоэфира 2,2 , 4,4 - тетраоксибензофенона 3,14-5.2, 1.2-нафто- хинондиазид-(2)-5-сульфоэфира метилен- бис-{2,4-диоксибензофенона) 3.8-5,4; кремний органический блок-сбполилер 0.015-0,03; ксилол 3,45-4,97; МЦА - остальное или диглим 5,52-7,10; ксилол 3,45-4,97; МЦА - остальное. Повышается термостойкость рельефа, снижается микрошероховатость пленки резиста. сужаются проявленные линии. 2 табл. ё

о - со х-оосг

-ОЗ

V СОО-.

OJKJо

ii) О-

оо--

ЧЛЮО

WС--

л

а г1 .

tn

U1

UJ

К

. -v4 ОЧ .

S

9St7928l

Cl

15

Фотолитографические показатели заявляемого фоторезиста

1825426

16 Таблица 2