ПИТАТЕЛЬ ДЛЯ СЫПУЧИХ МАТЕРИАЛОВ Советский патент 1967 года по МПК G01F11/00 

Изобретение относится к области химического маплиностроения питателей для сыпучих материалов, в частности к питателям для сыпучих материалов, применяемым при выращивании кристаллов, например, по методу Вернейля.

Известны питатели для сыпучих материалов, содержащие бункер, в нижней части которого помещены трубопровод сжатого воздуха и вибратор.

Отличие описываемого питателя заключается в том, что бункер соединен прямым и возвратным трубопроводами с сепарационным устройством, выполненным в форме сосуда, в центре которого помещена вертикальная трубка, смонтированная с диафрагмой, имеющей периферийные отверстия. Это повышаег степень равномерности подачи сыпучих материалов.

На чертеже показан описываемый питатель в общем виде.

Порошок засыпается в бункер / через горловину 2 и под действием вибратора 3 проходит через сетку 4 в тройник 5.

деленная скорость тока газа, благодаря чему крупные частицы и комочки порошка опускаются и по возвратной трубке 10 вновь поступают в бункер. Газ проходлт из сепаратора

по вертикальной трубке 11 и уносит с собой определенное количество порошка в горелку. В случае выращивания, например, кристалла рубина по другому каналу, - газ проходит через кран 12 прямо в горелку, где смешивается со струей порошка, выходящей из сепаратора. Смесь поступает в пламя горелки, где порошок расплавляется и оседает на поверхность растущего кристалла.

Количество газа, проходящего через сепаратор, а следовательно, и количество порошка, подаваемого в горелку, устанавливается по ротаметру 8 при помощи крана 12 за счет уменьшения или увеличения количества газа, поступающего непосредственно в горелку.

Трубка смонтирована с диафрагмой, имеющей периферийные отверстия.

Количество порошка, поступающего в горелку, прямо пропорционально количеству газа, проходящего через сепаратор, и конценбыстрее должна быть скорость газа, чтобы вынести их из сепаратора. Чем выше верхний край вертикгмьнои трубки, тем больше частиц

Тспеет единиться между собой и упасть.

Д{1Сдерсность порошков, применяемых для

выра1цивания кристаллов корунда и других

тугоплавких веш;еств, находится в пределах

1-60 мк.

В питателе описываемой конструкции количество порошка, подаваемого в горелку, может составлять от десятых долей грамма в час до нескольких сот граммов в час. При увеличении размеров питателя, количество подаБаемого материала соответственно может быть увеличено.

Предмет изобретения

Питатель для сыпучих материалов, содерл ащий бункер, в нижней части которого помеш;ены трубопровод сжатого воздуха и вибратор, отличающийся тем, что, с целью повышения равномерности подачи сыпучих материалов, бункер соединен прямым и возвратным трубопроводами с сепарационны.1 устройством, выполненным в форме сосуда, в центре которого помеш;ена вертикальная трубка, смонтированная с диафрагмой с периферийными отверстиями.