Способ полуяенчения слитков в электроннолучевой печи Советский патент 1977 года по МПК C21C5/56 

По известному электронно-лучевому способу выплавки круглых слитков с вертикальной вытяжкой их из кристаллизатора для получения плоских слябов круглые слитки необходимо дополиительно обрабатывать. Этим способом невозможно также получить многослойные листовые слябы, а кроме того, вытягнвание слитка из кристаллизатора часто является причиной надрывов и трещин в поверхностном слое слитка. С целью устранения указанных недостатков, предлагается формировать слиток на горизонтальном водоохлаждаемом поддоне, перемещаемом относительно неподвижного водоохлаждаемого барьера, который можно, кроме этого, перемещать вверх при получении многослойных листовых заготовок. Способ поясняется чертежом. Один из электронных лучей 1 направлен в зону плавления, куда подают исходный материал в виде компактной заготовки 2 или в виде стружки. Расплавленный металл стекает в промежуточную емкость 3, где он подогревается з лектронным лучом 4. Оттуда металл стекает на горизонтальный водоохлаждаемый поддон 5, который перемещают относительно неподвижного вод()охлаждаемо1о барьера 6. По мере наполнения металлом жидкой ванны, подогреваемой электронным лучом 7, поддон выдвигают, и расстояние между его задним торцом и барьером увеличивается. В результате этого металл, находящийся у заднего торца поддона, выходит из узкой зоны, облучаемой электронным лучом 7, и начинает кристаллизоваться. При формировании толстых монолитных или многослойных слитков после наплавки первого слоя барьер поднимают на высоту, равную толщннеэтого слоя, поддон возвращают в прежнеь положение и наплавляют второй слой и т. д. Формула {Изобретения Способ получения слитков в электроннолучевой печн, включающий предварительное р;и плавление щихты в промежуточной емкости, отличающийся тем, что, с целью получения монолитного или многослойного плоского слитка, формирование последнего осуществляют горизонтальным перемещением поддона относительно промежуточной емкости и барьера, а формнрование слоев - вертикальным перемещением барьера на высоту, равную толщине предыдущего слоя, и возвращением поддона в первоначальное положение.