(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ СОВМЕЩЕНИЯ ПОДЛОЖЕК
МИКРОСХЕМ
25, 26 ориентируют подложку по штифтак| 27 (см. фиг. 2). Устройство работает следующим образом.
Подложку 8 с нанесешсьал светочувствительньы слоем укладывают на полусферу 11 пневматическим захватом 18. При включении пневмоклапанов 19, 2О достигаются прижим шаблона и образованне вакуума в простра ств коло полусферы Ид ; Переключением пневмоклапана:2О на атмосферу через ротаметр 21 осуществляется подъем плунжера Юс полусферой 11 и подложкой 8 до упора к фотошаблону 7. При этом под действием пр ужнны 24 и штырей 25, 26 происходит ориен,тация подложки 8 по штифтам 27. Пере1ключением пневмоклапана 20 на вакуум производится фиксапия плунжера 10 мембранным вакуумньш фиксатором 14, откачка через обратный вакуумный клапан i 12 и прижим подложки 8 к полусфере 11 (Переключением пневмоклапана 19 на ежа- тый воздух из выхлопа вакуумного насоса через ротаметр 22 осуществляется подъем шаблона 7 от подложки 8 на определенный зазор. Винтами 23, наблюдая в микроскоп 17, производят совмещение, При: жим фотошаблона 7 к подложке 8 осуще;ствляют переключением пневмоклапана 19 на вакуум, затем включают освети тель 16 и производят экспонирование. Так как ориентация подложки 8 постоянi на, на последующих подложках фиксация, : зажим и экспонирование подложек происходят автоматически за счет определенного количества воздуха, проходящего через ротаметры 21, 22.
Предмет изобретения
Устройство для совмещения подложек микросхем, преимущественно при изготовлении интегральных микросхем, содержащее основание, пульт управления, освети тель и узел совмещения, состоящий из
механизмов фиксации и перемещения с цилиндром, плунжером и полусферой, о тл и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью повышения точности совмещения, цилиндр жестко закреплен на основании установки,
а полусфера снабжена вакуумным обратные клапаном и закреплена в верхней сфери ской части плунжера.
16
/3
;:j
.6
I
ue.J
27 8
2tf. гб
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПРЕЦИЗИОННОГО ФОТОЛИТОГРАФИЧЕСКОГО РИСУНКА НА ЦИЛИНДРИЧЕСКУЮ ПОВЕРХНОСТЬ ОПТИЧЕСКОЙ ДЕТАЛИ И ПРИСПОСОБЛЕНИЕ ДЛЯ КОНТАКТНОГО ЭКСПОНИРОВАНИЯ ИЗОБРАЖЕНИЯ ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ | 2012 |
|
RU2519872C2 |
Устройство для совмещения и экспонирования фотошаблона и подложки | 1989 |
|
SU1675833A1 |
Способ подготовки к контактному экспонированию и устройство для его осуществления | 1977 |
|
SU750614A1 |
Устройство для двустороннего совмещения шаблонов и экспонирования подложки | 1981 |
|
SU959020A1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ДВУСТОРОННЕГО СОВМЕЩЕНИЯ РИСУНКОВ ПОДЛОЖКИ С РИСУНКАМИ ФОТОШАБЛОНОВ | 1971 |
|
SU414142A1 |
УСТРОЙСТВО для СОВМЕЩЕНИЯ РИСУНКА Фо|с1Щ^ЛрНА '• I С РИСУНКОМ подложки ПРИ КОНТАКТНОЙ ФОТОПЕЧ/СТЙ-^ | 1967 |
|
SU190210A1 |
Устройство для совмещения рисунков подложки и фотошаблона | 1977 |
|
SU695433A1 |
УСТАНОВКА КОНТАКТНОЙ ФОТОЛИТОГРАФИИ ДЛЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН С БАЗОВЫМ СРЕЗОМ | 2018 |
|
RU2691159C1 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ШАБЛОНА | 1996 |
|
RU2094966C1 |
Устройство для проекционной печати и совмещения рисунков фотошаблона с подложкой | 1972 |
|
SU481145A1 |
Авторы
Даты
1974-11-25—Публикация
1972-10-12—Подача