Фотополимеризующаяся клеевая композиция Советский патент 1980 года по МПК C09J3/14 G03C1/68 

PiaH6ortee близкой по технической сущ ности и получаемому положительному эф фекту к изобретению является клеевая композиция на основе гидроксилсодержа- щего уретанового каучука и этиленненасыщенного соединения {сшивающий агент инициатора, ингибитора и растворителя. В пластине, приготовленной горячей припрессовкой с применением такой композиции, прочность скрепления пленки подложкой нарастает в процессе хранения (причем максимальная прочность скрепления достигается на 7 сут) и после экспонирования (при изготовлении изделий, имеющих требуемый рельефный слой) 2, Однако примененшо композиции препятствуют недостаточно высокая адгезия ко многим фотополимеризующимся пленкам, в частности к наиболее распростра ненным пленкам на основе кислых эфиров целлюлозы; использование дефицитного и дорогого гицроксилсодержашего уретанового каучука; необходимость . обеспечения высокой температуры при припрессовке, связанная с высокой температурой пластификации клея (901ОО С) и вызывающая опасность прежд временной полимеризации рабочего слоя; необходимость длительной (минимум 7 сут) выдернски готовой пластины, нерастворимость клеевой пленки при вымы вании рельефа. Последнее ведет к тому, что клеевая пленка остается и в пробельных местах, снижая такой важный показатель как глубина рельефа. Цель изобретения - повыщение прочности склеивания фотополимеризующего- ся слоя с подложкой, улучщение качества фотополимеризующихся пластин и упро щение технологии из производства. Поставленная цель достигается тем, что фотополнмеризующаяся клеевая комп зиция, включающая полимерную основу, этиленненасыщенный сшивающий агент, фотоинйциатор, ингибитор и растворитель в качестве полимерной основы содержат поливинилбутиральфталат, имеющий 1735% фталатных и 25-38% бутнральных групп и дополнительно - папиэтиленгли- коль при следующем соотношении компонентов, вес.%: Поливинилбутираль- фгалат 21, Этиленненасыщенный .сшивающий агент4,2-10,2 Полиэтиленгликоль4,5-8,0 Фотоинициатор 0,01-0,07 ИнгибиторО,002-0,ОО5 РастворительОстальное В качестве этиленненасыщенного соединения в композиции могут использоваться триэтиленгликольдиметакрилат или смесь его с глицидилметакрилатом. Полиэтиленгликоль является пластификатором. В качестве растворителя в композиции используется растворитель, общий с фотополимеризующимся слоем, т. е. хорошо, растворяющий приклеиваему пленку. Пример 1. Клеевая композиция готовится из 15 г Поливинилбутираль- фталата, (22,8%), содержащего 21,25% фталатных и. 34,3 % бутиральных групп; 3 г (4,5 %) триэтиленгликольдиметак- рилата , содержащего 0,05% гидрохинона (0,ОО2%); 0,02 г оС. -хлорантрахинона (0,ОЗ%), 3 г полиэтиленгликсшя ПЭР35 (4,5%) 45 г( 68,168%) растворителя (ацетошспирт -85:15 по объему). Приготовленный вязкий раствор наносится на металлическую подложку, покрытую противоореольной эмалью ЭП-173. После 5-6. мин высушивания к подложке при температуре валков 70°С припрессовывается фотополимерпая пленка на основе ацетосукцината целлюлозы. Полученная пластина экспонируется через стандартный негатив УФ-светом и вымывается О,15%-ным раствором едкого натра. Прочность на сдвиг скрепления печатающих элементов с подложкой в изготовленной печатной форме составляет 190,1 кг/см . Рельеф вымывается до эмали. Пример 2. Клеевая композиция готовится и наносится на фотополимер- ную пленку по примеру 1. После 2-3 мин высушивания, пленка при температуре валков 60°С припрессовывается к подложке, покрытой противоореольной эмалью . После экспонирования через стандартный негатив рельеф вымывается до эмали. Прочность скрепления на сдвиг - 210,4 кг/см Ч Пример 3. Клеевая композиция готовится и наносится на фотополимери- зующуюся пленку и подложку с эмалью по примеру 1. Припрессовка, экспонирование и вымывание проводятся при прежних условиях. Рельеф вымывается до противоореольного слоя. Прочность на сдвиг - 230,2 кг/см2., Пример 4. Клеевая композиция, состоящая из 15 г папивинилбутираль- фгалата, содержа;цег-о 17% рталатных и 38% бутиральных групп и остальных, компонентоБ no примеру 1 используется как описано в примере 1. После экспонирования пластина вымывается до эмали. Прочность скрепления печатающик элементов с подложкой 195,5 кг/см . Пример 5. Клеевая композиция готовится из 15 г попивинилбутираль- фталата (21,7%) содержащего 17% фталатных и 38% бутиральных групп, 5 г триэтиленгликольаиметакрилата ( 7,2%), содержащего 0,0025 г гидрохинона (0,О05%), 0,05 г -J- -хлорантрахинона (0,07%), 4 г полиэтиленгликоля ПЭГ35 (5,8%) и 45 г (65,125%) раствори теля и Используется как описано в примере 1. После экспонирования пластины она вымывается до эмали. Проч11ость на сдвиг 2ОО,3 кг/см 2. Пример 6. Клеевая композиция готовится из 15 г (ЗО%) поливинилбутиральфталата, содержащего 35% фтале- вых и 25% бутиральных групп, 2,5 г (5,1%) триэтиленгликольдиметакрилага, содержащего 0,О5% гидрохинона, 2,5 г глицидилметакрилата (5,1%), содержаще го 0,05% гидрохинона, общее количество гидрохинона на композицию составляет 0,005%; О, ОО5 г хлорантрахинона (0,01%), 4 г (8%) полиэтиленгликоля ПЭГ-35 и 25 г растворителя (51,785% и используется как описано в примере 2 После экспонирования пластины она вым вается до эмали. Прочность на сдвиг 235,0 кг/см. Прочность на сдвиг при использова нии известного клея в среднем составляет 160,3 кг/см 2.. Предлагаемая фотопопимеризующая клеевая композиция для фотополимеризу- ющихся пластин обладает существенными преимуществами. Композиция характеризуется пониженной стоимостью. Клеевая композиция обеспечивает повышение про ности скрепления элементов с подложкой в среднем на 31,0% по сравнению с известным. Использование растворителя, общего с рабочим фотопаггамеризующимся слоем, обеспечивает совместимость клея с рабочей пленкой и высокую проч ность скрепления клеевой пленки с фото полимеризующейся. Присутствие в молекуле полимера кислых фталевых групп сообщгает ему растворимость в водных растворах щелочей, что обеспечивает вымывание адгезива в пробельных местах при вымывании рельефа. Низкая температура перехода основного полимера 3 пластичное состояние позволяет проводить припрессовку при 60-70 0, что обеспечивает сохранность рабочего слоя и упрощает оборудование, поскольку позволяет обогревать валки не паром, а горячей водой, и, кроме того, снижает требуемое при прессовке давление (с П 5-7 кг/см до 2-3). Пластины, приготовленные с применением предлагаемой клеевой композиции, могут быть использованы непосредственно после припрессовки. Формула изобретения Фотополимернзующаяся клеевая композиция, включающая полимерную основу, этиленненасыщенный сшивающий агент, фотоинициатор, ингибитор и растворитель, отличающаяся тем, что, с целью повышения прочности склеивания фотополимеризующегося слоя с подложкой, улучшения качества фотополимеризующихся пластин и упрощения технологии их производства, в качестве полимерной основы она содержит поливинипбутиральфталат, имеющий фталзтных и 25-38% бутиральных групп и дополнительно полиэтилен гликоль при следующем соотношении компонентов, вес.%: Поливинипбутиральфталат 21,7-ЗО Этиленненасыщенный 4,2-1О,2 сшивающий агент 4,5-8,0 Полиэтиленгликоль О,01-О,О7 Фотоинициатор Ингибитор 0,002-0,005 Растворитель Остальное Источники информации, принятые во внимание при экспертизе 1.Патент США № 3241976, кл. 96-155, 1965. 2.Авторское свидетельство СССР з 427975,кл. G ОЗ С 1/68, 1972 (проготип).