(54) ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ | 1992 |
|
RU2037171C1 |
Фотополимеризующаяся композиция | 1982 |
|
SU1105851A1 |
Фотополимеризующаяся композиция для изготовления фотополимерных печатных форм | 1982 |
|
SU1097963A1 |
Фотополимеризующаяся жидкая композиция для покрытия печатной продукции | 1990 |
|
SU1728845A1 |
ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЗАЩИТНЫХ МАСОК ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ | 1990 |
|
RU2056645C1 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ОПТИЧЕСКИХ ИЗДЕЛИЙ | 1992 |
|
RU2057092C1 |
ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ ЩЕЛОЧЕСНИМАЕМОЙ ТРАФАРЕТНОЙ КРАСКИ УФ-ОТВЕРЖДЕНИЯ | 1992 |
|
RU2035057C1 |
Электроизоляционная композиция УФ-отверждения | 1987 |
|
SU1483495A1 |
СУХОЙ ПЛЕНОЧНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ | 1992 |
|
RU2054706C1 |
СУХОЙ ПЛЕНОЧНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ | 2000 |
|
RU2190871C2 |
I
Изобретения относится к фотопо- лимеризующимся композициям, которые могут быть использованы для изготовления рельефных изделий, например полимерных защитных масок в технологии изготовления
печатных плат в радиотехнической промышленности.
Известна фотопопвмервзующаяся зиция для взготовпенвя Защитных масок по печатным платам, включающая апоксикакриЛатный опигомер структурной формуша .
снг сн - С - О - сна - сн - CHi0сяг
0-СНг- СН- СНг-О-С -СК СНг ОНО
а также (мет-)акриловый мономер, напри- |с мёр неопентил-гликольдиакрвлат, фотовницватор, например ензофенон влв эфвр бензоина в краситель fl 1..
Недостатком известной кемпозвцвв является tcv что изготовленные из нее за-- j шитные маскв обладают неудовлетворительной термостойкостью - они не выдерживают воздействия высоких ( ) тем-. ператур (наблюдается изменение внешнего
вика, отслаивание маски, трешвны, пузыри в т.п.), а .потому не могут защитить печатные платы от действия расплавленйого припоя (температура которого 250280 С).
Цель изофетенвя - повышение термоЬтойкоств защитных масок.
Поставленная цель достигается тем, что фотополвмервзуюшая композидия, вкяю-
чающая эпоксидакрилатный олигомер, (мет-)акриловый мономер и фотоиниыиатор.
снг- С.-с - o-CHj-CH- СНг-0
RJ о
ОЯ
где R в HT идополнител ьно содержит ди(мвтип-)этнпа ноэтилметакрилат или триметакрилаттриэтаноламин при следующем соотношении компонентов, мас.ч,: Эпоксидакрилатный опигомер формулы ()40-70 (Мет-) акриловый мономер5О-25 Д и{ метил-) этиламиноэтилметакрилат или триметакрилаттриэтаноламин10-5Фотоинициатор1-5 Пример 1. Синтез эпоксидакри пата. X, К 192 г эпоксидно-диановой смо лы ЭД-2О (мол. вес. 380, содержание эпоксидных групп 20-21%) добавляют
в качестве эпоксидакрилатного олигомера содержит соединение формулы (I)
(I)
о-СНг-СН-сн -о-с) R, III
онО 43 г метакриловой кислоты (исходное соотношение карбоксильных и эпоксидных групп 1:2), 0,1 г ингибитора - гидрохинона, .1 г катализатора реакции N,N -ди- метилбензиламина. Температура реакции 8О i2°C, среда - инертная, контроль по кислотному числу до достижения его значения 3-5 jat ASWJT.K 47О г полученного ненасыщенного эпоксидного олигомера (содержание эпоксидных групп 9-11%, бромное число 4050 добавляют 83 г фтапевой кислоты (соотношение карбоксильных и эпоксидных групп 1:1). Температура реакции 1ОО±5°С, окончание - при значении кислотного числа .Полученный эпоксидакрилатный олигомер имеет следующую структурную формулу
{сн, с- I )1 .I
снз оон
СН,-СН-СНг-0-с4-,
III
оно Фотополимеризукадуюся композицию готовят следующим . 65 мас.ч. эпоксйдакрилатеого олигомера совмещают при перемещивании с 25 мйс.ч. метилметакрилата, 10 мас.ч. риметакрилаттриэтаноламина. Получают .с- ,)з11 18S К полученному составу перед использо ванием добавляют 2 мас.ч. метилового эфира бензиона в качестве фотоинвдваторг Вязкость.КОМПОЗИЦИИ 150 с по вискозиметру ВЗ-4 при1 2О С. Состав наносят на трафарет, с помощью ракЛи продавливают через сетку на печатцую плату и отверждают УФ-лучами ртутно-квар- цевой лампы ЛРТ-ЮОО на воздухе в течение 3,5 мин. Мощность лампы 1 кВт, расстояние от светящегося тела лампы до образца 15О мл облученность поверхности покрытия 700., Для поглощения инфракрасной составляющей излучения применяют водяной фильтр. Полученное защитное покрытие (маска) при пайке волной припоя, расплавленного при 25О-28О°С, не изменяет внещнего вида, выдерживает последующее обслуживание и термоциклы, обладает хо-. рощей адгезией к подложке и влагозащитным лакам. Дальнейший монтаж на платах на защитную маску отрицательного влияния не оказывает. Пример 2. Эпоксидакрилат синтезируют аналсяично примеру 1, с заменой на первой стадии метакриловой кислоты
на акриловую, а на второй фталевой метилтетрагидрофталевую. Полученный оли8262596
нагомер имеет следующую структурную фор
(сн„-сн-с-о-сн-сн-сн -О
V 2Ч2 I2
ООН
о-сн -сн-сн -о-с
ОН л ля приготовления фотополимеризуюш ся композиции 67 масТч. этого продукта совмещают с 25 мас.ч, бутилакрилата и 8 мас.ч. диметиламиноэтилметакрилата. Получают . °СНз CHi C-C-0-CHi-CHa--H в композицию перед использованием вводят 5 мас.ч. изобутилового эфира бен зоина в качестве фотоинициатора. Время отверждения состава 10О-120 с, технол гические свойства защитной маски сохраняются. Пример 3. Эпоксидакрилат пр-имера 1 совмещают с мономерами в следующем сотношении: эпоксидакрилат 4О мас.ч., метилметакрилат 5О мас.ч., диэтиламиноэтилметакрилат 1О мас.ч. Пйлу чают СгН5 dHa« с -с- СНг- СНг-11 С/ I II CiHj СНз о
270
Неудовлетво- Неудовлетворирительнаятельная (пол(частичное от- ное отслаиваслаивание по- ние покрытия) крытия)
Предлагаемая
1210
2100-120
3300
240 СНз
45
75
35
94
3 92 45
1 87 4О
90
4О Фотоинициатор 1 мас.ч. (метиловый эфир бензоина). Время отверждения 5 мин., технологические свойства маски удовлетворительные. П р и м е р 4. Эпоксидакрилат примера 1 7О мас.ч.метип етакрилат 25 мас.ч., диэтиламиноэтилметакрилат 5. мас.ч., ме- тиловый эфир бензоина 2 мас.ч. Время отверждения 4 мин, технологические свойства удовлетворительные. В таблицу сведены физико-механичес- кие характеристики защитных масок на печатных платах, полученных в процессе фотополимеризации предлагаемой и известной композиций. Как следует из таблицы, защитные маски, изготовленные из предлагаемой композиции обладают повыщенной,по сравнению с известной, термостойкостью при аналогичных показателях светочувствитель- ности и прочности при ударе и прочности на изгиб.
Формула изобретения Фотополимёрнзующаяся композиция для изготовления защитных масок по печатным платам, включающая эпоксиаакрилатйый олигомер, (мет-) акриловый мономер
(cH,j,-9-c-o-cH,
V R оон снз
40
.6 С,Нз, И
и дополнительно ьодержит ди(мвтил-)этиламиноэтилметакрилат или триметакрилаттриэтанопамин при следующем соотноше1)ии компонентов, мас.ч.:
Эпоксидакрилатный
олигомер формулыШ
40-7О
(Мет-) акриловый
5О-25
мономер
Ди( метил-) этитминои фотоиницнатор, отличающаяся тем, что, с целью повышения термостойкости защитных масок, в качестве эпоксидакрилатного олигомера она содержит соединение структурной формулы
0-CH.f си-сн -о-с-R,
он0- 2,
этилметакрилат или триметакрилаттри этаноламинФотоинициатор
Источники информации, принятые во внимание при экспертизе
Авторы
Даты
1981-04-30—Публикация
1978-03-20—Подача