Фотополимеризующаяся композиция Советский патент 1981 года по МПК G03C1/68 

Описание патента на изобретение SU826259A1

(54) ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ

Похожие патенты SU826259A1

название год авторы номер документа
ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ 1992
  • Яклаков М.Г.
  • Перельсон М.Е.
  • Климова Е.Д.
  • Иващенко С.П.
  • Грачев В.Т.
RU2037171C1
Фотополимеризующаяся композиция 1982
  • Померанцева Людмила Львовна
  • Зеленова Валентина Васильевна
  • Гусарская Наталья Львовна
  • Калашников Борис Павлович
  • Треушников Валерий Михайлович
  • Олейник Анатолий Васильевич
SU1105851A1
Фотополимеризующаяся композиция для изготовления фотополимерных печатных форм 1982
  • Иванчева Ирина Павловна
  • Губень Лариса Петровна
  • Раецкий Игорь Алексеевич
  • Орлов Феликс Иванович
  • Шульга Роман Петрович
SU1097963A1
Фотополимеризующаяся жидкая композиция для покрытия печатной продукции 1990
  • Миклушка Игорь Зиновьевич
  • Мервинский Роман Иванович
  • Токарчик Зиновия Григорьевна
  • Гранчак Василий Михайлович
SU1728845A1
ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЗАЩИТНЫХ МАСОК ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ 1990
  • Скрипчик Лидия Прокофьевна[By]
  • Дорошенко Виктор Антонович[By]
  • Токарчик Зиновья Григорьевна[Ua]
  • Мервинский Роман Иванович[Ua]
  • Шевчук Анатолий Васильевич[Ua]
  • Пышняк Чеслав Станиславович[By]
  • Зайцева Светлана Семеновна[By]
  • Манжула Геннадий Петрович[By]
  • Сазонова Елена Леонидовна[By]
  • Гранчак Василий Михайлович[Ua]
RU2056645C1
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ОПТИЧЕСКИХ ИЗДЕЛИЙ 1992
  • Нерозник В.Г.
  • Рот А.С.
  • Закс И.Н.
  • Гольдберг Ю.М.
  • Барачевский В.А.
  • Нерозник Л.Б.
RU2057092C1
ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ ЩЕЛОЧЕСНИМАЕМОЙ ТРАФАРЕТНОЙ КРАСКИ УФ-ОТВЕРЖДЕНИЯ 1992
  • Яклаков М.Г.
  • Перельсон М.Е.
  • Климова Е.Д.
  • Иващенко С.П.
  • Грачев В.Т.
  • Николенко В.И.
RU2035057C1
Электроизоляционная композиция УФ-отверждения 1987
  • Голиков Игорь Витальевич
  • Смирнов Геннадий Алексеевич
  • Бушин Алексей Александрович
  • Могилевич Михаил Маркович
  • Велютин Леонид Прокофьевич
  • Кондратьев Юрий Николаевич
  • Каленкова Людмила Владимировна
  • Шкуркина Людмила Юрьевна
SU1483495A1
СУХОЙ ПЛЕНОЧНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ 1992
  • Бутовецкий Д.Н.
  • Ковшова Н.Я.
  • Крупнов Г.П.
  • Быстров В.И.
  • Шипова Л.М.
RU2054706C1
СУХОЙ ПЛЕНОЧНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ 2000
  • Цейтлин Г.М.
  • Кузнецов И.В.
RU2190871C2

Реферат патента 1981 года Фотополимеризующаяся композиция

Формула изобретения SU 826 259 A1

I

Изобретения относится к фотопо- лимеризующимся композициям, которые могут быть использованы для изготовления рельефных изделий, например полимерных защитных масок в технологии изготовления

печатных плат в радиотехнической промышленности.

Известна фотопопвмервзующаяся зиция для взготовпенвя Защитных масок по печатным платам, включающая апоксикакриЛатный опигомер структурной формуша .

снг сн - С - О - сна - сн - CHi0сяг

0-СНг- СН- СНг-О-С -СК СНг ОНО

а также (мет-)акриловый мономер, напри- |с мёр неопентил-гликольдиакрвлат, фотовницватор, например ензофенон влв эфвр бензоина в краситель fl 1..

Недостатком известной кемпозвцвв является tcv что изготовленные из нее за-- j шитные маскв обладают неудовлетворительной термостойкостью - они не выдерживают воздействия высоких ( ) тем-. ператур (наблюдается изменение внешнего

вика, отслаивание маски, трешвны, пузыри в т.п.), а .потому не могут защитить печатные платы от действия расплавленйого припоя (температура которого 250280 С).

Цель изофетенвя - повышение термоЬтойкоств защитных масок.

Поставленная цель достигается тем, что фотополвмервзуюшая композидия, вкяю-

чающая эпоксидакрилатный олигомер, (мет-)акриловый мономер и фотоиниыиатор.

снг- С.-с - o-CHj-CH- СНг-0

RJ о

ОЯ

где R в HT идополнител ьно содержит ди(мвтип-)этнпа ноэтилметакрилат или триметакрилаттриэтаноламин при следующем соотношении компонентов, мас.ч,: Эпоксидакрилатный опигомер формулы ()40-70 (Мет-) акриловый мономер5О-25 Д и{ метил-) этиламиноэтилметакрилат или триметакрилаттриэтаноламин10-5Фотоинициатор1-5 Пример 1. Синтез эпоксидакри пата. X, К 192 г эпоксидно-диановой смо лы ЭД-2О (мол. вес. 380, содержание эпоксидных групп 20-21%) добавляют

в качестве эпоксидакрилатного олигомера содержит соединение формулы (I)

(I)

о-СНг-СН-сн -о-с) R, III

онО 43 г метакриловой кислоты (исходное соотношение карбоксильных и эпоксидных групп 1:2), 0,1 г ингибитора - гидрохинона, .1 г катализатора реакции N,N -ди- метилбензиламина. Температура реакции 8О i2°C, среда - инертная, контроль по кислотному числу до достижения его значения 3-5 jat ASWJT.K 47О г полученного ненасыщенного эпоксидного олигомера (содержание эпоксидных групп 9-11%, бромное число 4050 добавляют 83 г фтапевой кислоты (соотношение карбоксильных и эпоксидных групп 1:1). Температура реакции 1ОО±5°С, окончание - при значении кислотного числа .Полученный эпоксидакрилатный олигомер имеет следующую структурную формулу

{сн, с- I )1 .I

снз оон

СН,-СН-СНг-0-с4-,

III

оно Фотополимеризукадуюся композицию готовят следующим . 65 мас.ч. эпоксйдакрилатеого олигомера совмещают при перемещивании с 25 мйс.ч. метилметакрилата, 10 мас.ч. риметакрилаттриэтаноламина. Получают .с- ,)з11 18S К полученному составу перед использо ванием добавляют 2 мас.ч. метилового эфира бензиона в качестве фотоинвдваторг Вязкость.КОМПОЗИЦИИ 150 с по вискозиметру ВЗ-4 при1 2О С. Состав наносят на трафарет, с помощью ракЛи продавливают через сетку на печатцую плату и отверждают УФ-лучами ртутно-квар- цевой лампы ЛРТ-ЮОО на воздухе в течение 3,5 мин. Мощность лампы 1 кВт, расстояние от светящегося тела лампы до образца 15О мл облученность поверхности покрытия 700., Для поглощения инфракрасной составляющей излучения применяют водяной фильтр. Полученное защитное покрытие (маска) при пайке волной припоя, расплавленного при 25О-28О°С, не изменяет внещнего вида, выдерживает последующее обслуживание и термоциклы, обладает хо-. рощей адгезией к подложке и влагозащитным лакам. Дальнейший монтаж на платах на защитную маску отрицательного влияния не оказывает. Пример 2. Эпоксидакрилат синтезируют аналсяично примеру 1, с заменой на первой стадии метакриловой кислоты

на акриловую, а на второй фталевой метилтетрагидрофталевую. Полученный оли8262596

нагомер имеет следующую структурную фор

(сн„-сн-с-о-сн-сн-сн -О

V 2Ч2 I2

ООН

о-сн -сн-сн -о-с

ОН л ля приготовления фотополимеризуюш ся композиции 67 масТч. этого продукта совмещают с 25 мас.ч, бутилакрилата и 8 мас.ч. диметиламиноэтилметакрилата. Получают . °СНз CHi C-C-0-CHi-CHa--H в композицию перед использованием вводят 5 мас.ч. изобутилового эфира бен зоина в качестве фотоинициатора. Время отверждения состава 10О-120 с, технол гические свойства защитной маски сохраняются. Пример 3. Эпоксидакрилат пр-имера 1 совмещают с мономерами в следующем сотношении: эпоксидакрилат 4О мас.ч., метилметакрилат 5О мас.ч., диэтиламиноэтилметакрилат 1О мас.ч. Пйлу чают СгН5 dHa« с -с- СНг- СНг-11 С/ I II CiHj СНз о

270

Неудовлетво- Неудовлетворирительнаятельная (пол(частичное от- ное отслаиваслаивание по- ние покрытия) крытия)

Предлагаемая

1210

2100-120

3300

240 СНз

45

75

35

94

3 92 45

1 87 4О

90

4О Фотоинициатор 1 мас.ч. (метиловый эфир бензоина). Время отверждения 5 мин., технологические свойства маски удовлетворительные. П р и м е р 4. Эпоксидакрилат примера 1 7О мас.ч.метип етакрилат 25 мас.ч., диэтиламиноэтилметакрилат 5. мас.ч., ме- тиловый эфир бензоина 2 мас.ч. Время отверждения 4 мин, технологические свойства удовлетворительные. В таблицу сведены физико-механичес- кие характеристики защитных масок на печатных платах, полученных в процессе фотополимеризации предлагаемой и известной композиций. Как следует из таблицы, защитные маски, изготовленные из предлагаемой композиции обладают повыщенной,по сравнению с известной, термостойкостью при аналогичных показателях светочувствитель- ности и прочности при ударе и прочности на изгиб.

Формула изобретения Фотополимёрнзующаяся композиция для изготовления защитных масок по печатным платам, включающая эпоксиаакрилатйый олигомер, (мет-) акриловый мономер

(cH,j,-9-c-o-cH,

V R оон снз

40

.6 С,Нз, И

и дополнительно ьодержит ди(мвтил-)этиламиноэтилметакрилат или триметакрилаттриэтанопамин при следующем соотноше1)ии компонентов, мас.ч.:

Эпоксидакрилатный

олигомер формулыШ

40-7О

(Мет-) акриловый

5О-25

мономер

Ди( метил-) этитминои фотоиницнатор, отличающаяся тем, что, с целью повышения термостойкости защитных масок, в качестве эпоксидакрилатного олигомера она содержит соединение структурной формулы

0-CH.f си-сн -о-с-R,

он0- 2,

этилметакрилат или триметакрилаттри этаноламинФотоинициатор

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Патент США Nv 3713864, кп. 117-33, опубпик. 1973 (прототип),

SU 826 259 A1

Авторы

Рот Альфред Станиславович

Черняков Эдуард Абрамович

Даты

1981-04-30Публикация

1978-03-20Подача