Изобретение относится к жидким фото- полимеризующимся покрытиям для облагораживания и защиты печатных оттисков и может быть использовано в полиграфической, радиотехнической, приборостроительной и целлюлозно-бумажной промышленностях.
Для облагораживания полиграфической продукции применяют жидкие лаки, состав
которых содержит пленкообразующие вещества на основе натуральных и синтетических смол, растворитель и различные модифицирующие добавки.
К недостаткам этих лаков следует отнести наличие в составе токсичных растворителей, низкую адгезию к печатному оттиску, изменение цветовых характеристик красочного слоя, большое время сушки.
В качестве декоративных покрытий печатной продукции применяются также композиции, отверждаемые фотохимическим способом.
Известна фотополимеризующаяся ком- позиция для покрытия печатной продукции на основе водной дисперсии полимера, полученного полимеризацией этиленового соединения в воде, этиленненасыщенного мономера и фотосенсибилизатора. Покры- тия из этой композиции являются невлагостойкими и обладают низкой адгезией к красочному слою печатного оттиска.
Известна фотополимеризующаяся композиция для покрытия поверхности запеча- тайного материала, содержащая 5-20% гликоля, глицерина, высших спиртов Сю С20 или их смесь. Однако в процессе старения ухудшаются декоративные свойства покрытия, что ограничивает область применения композиции.
Известна фотополимеризующаяся композиция для покрытия печатных оттисков, состоящая из форполимера с этиленовыми ненасыщенными двойными связями, акрилового или аллилового мономера и фотосенсибилизатора с добавлением 0,5-10% жидких масел или кислот. В качестве фотоинициатора используется этиловый, бутило- вый эфиры бензоина или бензофенон.
Недостатком этой композиции является большое содержание фотоинициирующей системы (10-15 мае.%), что неблагоприятн сказывается на декоративных свойствах по- крытия и ухудшает адгезию к печатному оттиску. Для устранения этих недостатков в композицию вводят 0,5-10% жирного масла или жирной кислоты, а это снижает светочувствительность композиции и увеличива- ет время отверждения покрытия.
Наиболее близкой к предлагаемой композиции является фотополимеризующаяся композиция, включающая мета крилдиэти- ленгликольфталат (МДФ-2), триакрилат пентаэритрит (ПЭТА), диалкиламиноэтил- метакрилат (ДМАЭМ), а в качестве фотоинициатора - 4-фенилбензофенон.
Недостатком этой композиции является низкая светочувствительность, что не обес- печивает высокой скорости отверждения покрытия.
Цель изобретения - повышение светочувствительности композиции для создания лакового покрытия печатной продукции.
Поставленная цель достигается тем, что композиция, включающая олигоуретанметак- рилат, (мет)акриловые мономеры и фотоини- циирующую смесь, в качестве олигомера содержит олигоуретанметакрилат марки ОУА-2000Т, получаемый на основе монометакрилового эфира этиленгликоля, 2,4-толу- илендиизоцианата и олигооксипропиленг- ликоля, структурная формула которого
А3
NHCOO(CH2CH20;nCONH-rpS,
СНг С-СОО(СНг12ОСОМНг Г СН3
cHj- CH c-cooccHjljOCONH
с мол.м. 2550-2600, в качестве мономеров содержит диэтиламиноэтилметакрилат и триэтиленгликольдиметакрилат или полиэти- ленгликольдиметакрилат или пентаэритрит- тетраакрилат, в качестве фотоинициатора - смесь 4-фенилбензофенона и 2,2-диметокси- дифенилацетофенона при следующем содержании компонентов, мас.%: Триэтиленгликольдиметакрилат (ТГМ-3) или полиэтиленгликоль- диметакрилат ЛТМ-13) или пентаэритриттетраакрилат (ПЭТА)10-20
Диметиламиноэтилметакрилат (ДМАЭМ)6-10
4-Фенилбензофенон (ФБФ) 1,5-2,5 2,2-Диметоксидифенил- ацетофенон (К)2-3
Олигоуретанметакрилат (ОУА-2000Т)80,5-64,5
Пример (известный). Приготавливают светочувствительную композицию следующего состава, мас.%: Метакрилдиэтилен- гликольфталат (МДФ-2)63
Пентаэритриттриакрилат (ПЭТА) 20 Диметиламиноэтилметакрилат (ДМАЭМ)15
4-Фенилбензофенон2
Композицию после тщательного перемешивания равномерно наносят толщиной 10 мкм ракельным устройством на оттиски, отпечатанные масляной типографской краской на мелованной бумаге. Покрытия от- верждают излучением ртутно-кварцевой лампы высокого давления типа ДРТ-400, находящейся на расстоянии 20 мм до облучаемой поверхности. Мерой светочувствительности композиции принимают время облучения, при котором поверхностный слой покрытия от- верждается до устранения липкости.
П р и м е р 1. Приготавливают светочувствительную композицию следующего состава, мас.%:
Триэтиленгликольдиметакрилат
(ТГМ-3)10
Диметиламиноэтилметакрилат
(ДМАЭМ)6
4-Фенилбензофенон (ФБФ)1,5
2,2-Диметоксидифенилацетофенон
(К)2
Олигоуретанметакрилат
(ОУА - 2000Т)80,5
Последующие примеры представлены в таблице.
Приготовление композиции, нанесение и отверждение покрытия проводят аналогично известному примеру.
Как видно из таблицы, покрытия, полученные из предлагаемой фотоинициирую- щей композиции, отверждаются при меньшем времени облучения ртутно-квар- цевой лампой высокого давления. Повышение светочувствительности композиции в 2-3 раза увеличивает производительность труда, уменьшает энергозатраты при отверждении покрытия, улучшает качество отделки печатных оттисков.
0
5
0
Формула изобретения Фотополимеризующаяся жидкая композиция для покрытия печатной продукции, включающая ненасыщенный метакриловый олигомер- олигоуретанметакрилат, (мет)акри- ловый мономер - диметиламиноэтилметакри- лат и фотоинициатор - 4-фенилбензофенон, отличающаяся тем, что, с целью повышения светочувствительности композиции, она дополнительно содержит 2,2-ди- метоксидифенилацетофенон при следующем соотношении компонентов, мас.%:
(Мет)акриловый мономер10-20
Диметиламиноэтилметакрилат 6-10 4-Фенилбензофенон1,5-2,5
2,2-Диметоксидифенил- ацетофенон2-3
Олигоуретанметакрилат Остальное
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
ЖИДКАЯ ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ ЛАЗЕРНОЙ СТЕРЕОЛИТОГРАФИИ | 2008 |
|
RU2395827C2 |
ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ | 1992 |
|
RU2037171C1 |
ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ ЩЕЛОЧЕСНИМАЕМОЙ ТРАФАРЕТНОЙ КРАСКИ УФ-ОТВЕРЖДЕНИЯ | 1992 |
|
RU2035057C1 |
Жидкая светочувствительная композиция | 1979 |
|
SU830285A1 |
Жидкая фотополимеризующаяся композиция для лазерной стереолитографии | 2017 |
|
RU2685211C2 |
Жидкая фотополимеризующаяся композиция для изготовления печатных форм | 1982 |
|
SU1123013A1 |
ПОЛИМЕРНАЯ КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ ПОКРЫТИЙ | 2000 |
|
RU2179991C2 |
ЛИНЗОВЫЙ РАСТР В ВИДЕ ТРИПЛЕКСА ДЛЯ СОЗДАНИЯ АВТОСТЕРЕОСКОПИЧЕСКОГО ИЗОБРАЖЕНИЯ И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ | 2014 |
|
RU2574617C1 |
Фотополимеризующаяся композиция | 1978 |
|
SU830284A1 |
ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ | 1988 |
|
SU1584607A1 |
Изобретение относится к фотополиме- ризующимся защитным покрытиям в полиграфической, радиотехнической, приборостроительной, целлюлозно-бумажной промышленности. Цель изобретения - повышение светочувствительности фотопо- лимеризующейся композиции (ФПК) для создания лакового покрытия печатной продукции. В состав ФПК входят следующие компоненты, мае. %: (мет)акриловый мономер, например, триэтиленгликольди- метакрилат или полиэтиленгликольдиме- такрилат, или лентаэритриттетраакрилат 10-20; диметиламиноэтилметакрилат 6-10; 4-фенилбензофенон 1,5-2,5; 2,2-диметокси- дифенилацетофенон 2-3; олигоуретанме- такрилат (ОУА-2000Т) 80,5-64,5. Олигоуретанметакрилат марки ОУА-2000Т, получаемый на основе монометакрилового эфира этиленгликоля, 2,4-толуилендиизоци- аната и оксипропиленгликоля, имеет мол. м. 2550-2600. Указанный состав позволяет повысить светочувствительность ФПК в 2 раза: время отверждения (с помощью лампы ДРТ-400 на расстоянии 20 мм) слоя ФПК, нанесенного толщиной 10 мкм на печатные оттиски, равно 15-21 с, в то время как для прототипа это время равно 43 с. 1 табл, сл с N к 00 00 4 СЛ
Волчек В.Л | |||
Отделка полиграфической продукции | |||
- М.: Книга, 1988, с.80 Заявка Японии № 60-18557, кл | |||
Механический грохот | 1922 |
|
SU41A1 |
Устройство двукратного усилителя с катодными лампами | 1920 |
|
SU55A1 |
Механический грохот | 1922 |
|
SU41A1 |
Способ получения молочной кислоты | 1922 |
|
SU60A1 |
Механический грохот | 1922 |
|
SU41A1 |
Авторское свидетельство СССР № 1577556, кл | |||
Переносная печь для варки пищи и отопления в окопах, походных помещениях и т.п. | 1921 |
|
SU3A1 |
Берлин А.А, и др, Акриловые олигомеры и материалы на их основе | |||
- М.: Химия, 1983, с | |||
Крутильно-намоточный аппарат | 1922 |
|
SU232A1 |
Авторы
Даты
1992-04-23—Публикация
1990-01-02—Подача