(54) ЭЛЕКТРОЛИТ ДЛЯ ОСАЖДЕНИЯ ПОКРЫТИИ ИЗ СПЛАВА НИКЕЛЬ-ЖЕЛЕЗО
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Способ электрохимического локального осаждения пленок пермаллоя NiFe для интегральных микросистем | 2015 |
|
RU2623536C2 |
Способ электрохимического осаждения пленок тройного сплава CoNiFe | 2022 |
|
RU2794924C1 |
Способ электрохимического осаждения пленок пермаллоя NiFe для интегральных микросхем | 2018 |
|
RU2710749C1 |
Электролит для осаждения покрытийиз СплАВА НиКЕль-жЕлЕзО-КОбАльТ | 1978 |
|
SU800248A1 |
Электролит для осаждения сплавов железо-никель-молибден | 1975 |
|
SU600215A1 |
Электролит для осаждения покрытий сплавом никель-железо-фосфор | 1980 |
|
SU985158A1 |
Способ электролитического осаждения пленок на основе магнитотвердых сплавов | 1973 |
|
SU496335A1 |
Способ изготовления цилиндрических магнитных пленок | 1981 |
|
SU970468A1 |
СПОСОБ ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ СПЛАВА НИКЕЛЬ-ЖЕЛЕЗО ТИПА ПЕРМАЛЛОЙ | 1972 |
|
SU324305A1 |
Способ получения магнитомягкого покрытия сплавом никель-кобальт-фосфор | 1983 |
|
SU1157132A1 |
1
Изобретение относится к гальва ностегии, в частности к осаждению тонких.магнитных пленок из сплава никель-железо, обладающих низкой коэрцитивной силой на электрополированные плоские медные или латунные подложки.
Известен сульфаматный электролит для осаждения покрытий из сплава никель-железо толщиной 1000-10000 А. Процесс осаждения ведут при рН 2-3,5, комнатной температуре, плотности тока 1 А/дм с наложением магнитного поля. Из данного электролита осаждают пленки с коэрцитивной силой (не) 2-4 Э и удовлетворительной петлей гистерезиса l Однако сульфаматный электролит относительно дорог.
Наиболее близким к изобретению является электролит для осаждения покрытий из сплава никель-железо, содержащий сульфаты никеля и железа и борную кислоту. Электролит содержит также сахарин, лаурилсульфат и гипофосфит натрия. Процесс осаждения ведут при ,5-3,4, температуре 50-52 С, плотности тока 0,6 А/дм с наложением магнитного поля. Из данного электролита осаждают пленки тройного сплава никель-железо-фосфор толщиной 800-1600 А с коэрцитивной силой 1,7-2,5 Э 2 .
Однако пленки осаждают на стеклян10ную подложку, на которую предварительно в вакууме напыляют слой хрома толщиной 100 А и слой золота толщиной 100 А, что усложняет процесс приг отовления подложки. Таким образом, извест«5ный электролит обеспечивает получение пленок с хорошими магнитными свойствами только на подложках с более высоким классом чистоты и непригоден для получения качественных пленок на более
20 грубых подложках, нашример полированной меди или латуни.
Целью изобретения является улучшение магнитных свойств покрытий. 3 Указанная цель достигается тем, чт электролит дополнительно содержит тио семикарбазид солянокислый и натриевую соль п-сульфамидо.анилинометансульфокислоты или оксиметансульфокислоты при следующем соотношении компонентов г/л: Сульфат никеля 260-290 Сульфат железа8-12 Борная кислота 20-50 Тиосемикарбазид солянокислый0,025-0,10 Натриевая соль п-сульфамидоанилинометансульфокислотыили оксиметансульфокис: лоты0,05-1,0 Процесс осаждения рекомендуется проводить при ,5-4,0, комнатной температуре и плотности тока ,0 А/дм с бесконтактным подводом тока (катод - дно ванны, анод - никель) и с наложением постоянного магнитного поля величиной 100-500 Э, соз даваемого с помощью катушки Гельмгол ца в направлении вдоль прокатки медной или латунной фольги толщиной 0,0 0,08 мм, что улучшает одноосевую ани зотропию пленок. Тиосемикарбазид солянокислый NH CH-C-NHjHCI способствует получению S
Состав электролита, г/л
(
Сульфат.никеля Сульфат железа Борная кислота
Тиосемикарбазид солянокислый
Натриевая соль п-сульфамидоанилинометансульфокислоты
Натриевая соль оксиметансульфокислоты
0,0250,05 0,05 0,100,05 t
0,05 0,5 - 1,0 - 0,5 0,50,5 2 пермаплоевых пленок (80% Ni и 20%Fe) толщиной 1000-3000 А и имеющих коэрцитивную силу 1-2 Э. Натриевая соль п-сульфамидоанилинометансульфокислоты (растворимый стрептоцид) CH-N-SO NHи оксиметансульфокислый натрий НОСИ -SOjNa повышают коэффициент пря1моуголь; ости петли гистерезиса (0,80,9) и блеск пленок. Совместное использование добавок обеспечивает получение мелкокристал-. лических зеркально-блестящих покрытий с регулярной доменной структурой, приводит к выравниванию поверхности, уменьшает размеры кристаллов в сред нем от 360 до 120 А, уменьшает внутренние напряжения с 11800 до 4300 кг/см для пленок толщиной 1000 А. Получаемые пленки наровне с улучшенными магнитными свойствами облада1ют высокой микрствердостью и корро|зионной стойкостью: не окисляются на воздухе и не растворяются в концентрированных кислотах (серной, соляной, хлорной, фосфорной и других) и лишь частично тускнеют в разбавленной серной кислоте. В табл.1 и 2 представлены состав электролита, режим и результаты электролиза. Т а б л и -ц а 1
Авторы
Даты
1981-09-15—Публикация
1964-02-21—Подача