Способ электролитического осаждения пленок на основе магнитотвердых сплавов Советский патент 1975 года по МПК C23B5/32 

та и фосфора или кобальта - никеля - фос фора, на гибкую подложку, в частности н полис фирцую ленту. Для этого покрытую металлическим слоем несущую подложку помешают в электролитическую ванну, со держащую электролит в виде раствора с nf nUfATflVli 110 VTrx/MTi n в . .ч..н...« лей металлов. Подложка служит катодом, для чего ее присоединяют металлическим слоем к отрицательному полюсу источника тока и протш ивают через ванну с постоянной скоростью. В электролит добавляют от 2 по 30 г/л тетраацетат динатрийгидроэтилендиамина и поддерживают известным образом значение рН в пределах от 2,5 до 6. Для электролитического покрытия при меншот импульсный ток прямоугольной формы частотой от 2 до 10 Ги, амплиту да которого изменяется от,отрицательных к положительным . значениям, скважность импульсов,лежащая в пределах от 2 до 4 описывается уравнением -ГГ где Т - время длительности периода, У - время длительности катодного импульса при действующей плотности ка тодного тока 1, равной 0,5- 7 плотности анодного тока, определяемой из уравнения Г ГА/ДМ , (2) / - $K где ( -плотность анодного тока, t, - плотность катодного тока, I - действующая плотность катодного тока. Импульсный ток способствует изменению состояния между катодным покрытием и переносом частиц к аноду, причем оседает тонкий кристаллический слой, создающий условия для образования необI ходимых магнитных свойств. Изменение частоты, скважности и действующей или катодной плотности тока оказывает влияние на осаждающийся слой, изменением тонкого магнитотвердого слоя можно добиться максимального значения коэрцитив ной силы, отношения остаточной индукции или оптш.1ального значения обоих парамет ров. К электролиту добавляют 10 г/л тетраацетата динатрийдтидроэтилендиамина и устанавливают значение рН для хлоридных всего равным 3,5, а для сульфатных ванн равным 5,5. - Целесообразно вести процесс при частоте от 4 Гц, скважности импульсов не ниже 3, с действ)аошей плотностью тока не, ниже 1,5 А/дм . Целесообразно вести г процесс при темпэра-гуре электролитической . .,-х ванны от 15 до 30 С, оптимальная температура 22°С. Существо изобретения поясняется следующим примером. Обмедненную с одной стороны полиэфирную пленку шириной около 6 мм помешают в электролитическую ванну. Присоединяясь к отрицательному полюсу источника тока, она служит катодом. Электролит имеет следующий состав: 100 г/л CogO . чистая 42 2 50 г/л NiSOj. 30 г/л НаН„РО 2- 2 - 25 г/л (NH ) 60 4 2 4 10 г/л тетраацетата динатрийдигяррометилендиамина и температуру . Значение рН устанавливают равным 5,5. В качестве источника питания применяют прибор с электронной стабилизацией по току, выдающий прягмоутольные отрицательный и положительный импульсы. Импульсный ток имеет частоту 4 Гц и скважчость с отношением 4:1. Действующую плотность тока выбирают равной 1,5 А/дм, а катодную плотность, равной 10,5 А/дм. По уравнению (2) устанавливают пло-шость анодного тока, равной 34,5 А/дм . После включения импульсного тока лента непрерывно со скоростью 23,4 см/мин протягивае1ся 4ei- эз ванну. При этом на обмедненную подложку осаждается слой соединения кобальт - никель - фосфор толщиной 0,1 мкм. Этот слой имеет коэрцитивную силу, равную 1530 Э, и отношение остаточной индукции, равное 0,76, При нанесении покрытия при помощи постоянного тока из такого жо электролита осаждается слой с коэрцитивной силой, равней 800 Э, при отношении остаточной индукции, равн: м 0,6. Формула изобретения Способ электролитического осаждения пленок на основе магиитотвердых сплавов, преимушественно кобальт - фосфор, кобальт - никель - фосфор, из электролита, содержащего хлориды и сульфаты исходных металлов, отличающийся тем, что, с целью повышен11я плотности накопления информации пленками, в электролит вводят добавку тетрмацетата линатрийди- гидроэтипендиаминп в количестве 2-ЗО г/л и процесс ск:аждения вед5Т при рН 2,5- 6с использованием импульсного тока прямоугольной формы с частотой 2 - 10 Гц, амплитуда которого изменяется от отрица-5 тельиого до положительного значения со скважностью импульсов 2 - 4 по уравнению J. « t Z T-J где Т - время длительности периода,10 9 - время длительности катодного импулься при действующей плот- ( кости катодного тока / ювной / 0,5-7 А/дм , и плотности анодтока, определяемой из уравнения чг w K(L i-fГЛ/А J if л -плотность анодного тока, . И Rle -плотность катодного тока, - действующая плотность катод-. I кого то.