Способ получения фотопластического слоя электрофотографического материала Советский патент 1982 года по МПК G03G5/07 

(54) СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ФОТОПЛЛСТИЧЕСКОГО СЛОЯ ЭЛЕКТРОФОТОГРАФИЧЕСКОГО МАТЕРИАЛА

1

Изобретение относится к получению фотопластического слоя электрофотографического материала, который может быть использован в устройствах записи, хранения и обработки оптической информации.

Известен способ получения фотопластического слоя электрофотографического материала путем введения в поли-Н-винилкарбазол органического фотоэлектрически чувствительного вещества, например, полиина и ацетиленида металла Ю. .

Наиболее близким к предлагаемому является способ получения фотопластического слоя электрофотографического материала 2 , заключающийся в радикальной сополимеризации карбазолил-9 метилметакрилата с алкилметакрилатом в присутствии инициатора, в качестве которого используют динитрил азодиизомасляной кислоты при нагревании 70-100°С с последующим выделением целевого продукта известным способом, причем карбазолил-9-этилметакрилата берут 4878 мол., алкилметакрилата мол.1 а инициатора 2- мол.%.

Недостаток известного способа невысокая чувствительность фотоплас- тического слоя электрофотографического материала 0,1-0,3 л с .

Цель изобретения - повышение чувствительности Оотопластического слоя

10 электрофотографическогоматериала.

Поставленная цель достигается тем, что в способе получения фотопластйческого слоя электрофотографического материала, заключающемся в радикаль 5ной сополимеризации карбазолил-9-зтилметакрилата с октилметакрилатом при нагревании с последующим выделением целевого продукта, радикальную сополимеризацию ведут в присутствии

гЬ дивинила, причем карбазолил-9-этилметакрилата берут мол.%, октилметакрилата 15-20 мол.5; и дивинила 15-30 мол.%. Предлагаемым способом получают фотопластический материал, представ ляющий собой сополимер карбазолил-9 этилметакрилата, октилметакрилата и дивинила, получаемый радикальной сополимеризацией мономеров в определенном мольном соотношении. Сополимеры хорошо растворимы в орга нических растворителях (бензол,хлороформ,толуол и др.) и образуют из растворов прозрачные однородные пленки. Фотопластический материал обладает следующими характеристиками: Температура стеклования, Температура текучести, С:62-75 Характеристическая вязкость 0,03-0,08 Фотографическая чурствитель- . ность, с 0,8-1,0 Изобретение иллюстрируется следу щими примерами получения фотопластического слоя сополимеризацией карбазолИл-9-этилметакрилата,октилметакрилата и дивинила. Пример 1. Смесь 3,79 г (68 мол.) карбазолил -9 этилметакри лата, 0,55 г (1 мол.) октилметакрилата, 0,161 г (15 мол.) дивини лауО,1 г (3 МОЛ.1) динитрила азодиизомасляной кислоты в качестве инициатора и 5 г. толуола нагревают в запаянной ампуле в течение 10 ч при 100°С. Содержимое ампулы разбавляют толуолом и осаждают продукт из раст вора метанолом. Выпавший сополимер сушат в вакуум-сушильном шкафу при до постоянного веса. Выход сополимера составляет 4,25 (9,5 мол.); температура стеклования 46-48°С, текучести 74-75 С, ха рактеристическая вязкость 0,03. Пример 2. Смесь 2,79 г (50 мол.) карбазолил-9-этилметакрилата, 0,75 г (19 мол.%) октилметакрилата, 0,30 г (28 мол.%) диви нила, 0,1 г (0,3 мол.%) динитрила азодиизомасляной кислоты и г толуола нагревают в запаянной ампуле 10 ч при 10(f С. После обработки содержимого ампулы аналогично примеру 1 выход сополимера составляет 3,51 г (91,5%), температура стеклования , температура текучести 62-65 С, характеристическая вязкость 0,08, Прим е р 3. Смесь 3,32 г (58 мол.) карбазолил-9-этилметакрилата, 0,59 г (15 мол.|) октилметакрилата, 0,27 г (25 мол.) дивинила, 0,066 г (2 мол.) динитрила азодиизомасляной кислоты и 4,3 г толуола нагревают в запаянной ампуле 10 часов при 100°С. Обработку ведут аналогично примеру 1. Выход сополимера 3,8 г (92,8%), температура стеклования 42-43 С, текучести 66-68С , характеристическая вязкость 0,039. Предложенный фотопластический слой однороден по составу, образует пленки, обладающие хорошей эластичностью. Снижение температуры стеклования фотопластического материала до 41-48 С и текучести до б2-75 С позволяет производить запись оптических изображений при пониженных температурах 4548 С; При этом кратность фотоответа при освещении 2 лк увеличивается по сравнений с известным более чем в 2 раза. Увеличение чувствительности фотЬпластического материала обусловлено не только понижением температуры записи, но и образованием ЯГ -комплексов при взаимодействии двойных связей звеньев дивинила с сенсибилизатором. Подогрев фотопластического слоя до температуры проявления и охлаждения до температуры стеклования происходит за более короткий промежуток времени, что позволяет оперативно производить регистрацию информации и ее сбор. Формула изобретения Способ получения фотопластичесого слоя электрофотографического атериала путем радикальной сополиеризации карбазолил-9-этилметакриата с октилметакрилатом при нагреании с последующим выделением цеевого продукта, отличающийя тем, что, с целью увеличения оточувствительности слоя, радиальную сополимеризацию ведут в приутствии дивинила,.причем берут 500 мол.% карбазолил-9-этилметакри5 6

лата 15-20 мол... октилметакрилата и 1. Авторское свидетельство СССР 15-30 молД дивинила. 169395, кл. G 03 G-5/07, 19бЗ.

Источники информации, по заявке 2719038/28-12, принятые во внимание при эксг ертизе 5 кл. G 03 G 5/07, 197Э (прототип).

2. Авторское свидетельство СССР