(54) ЭЛЕКТРОЛИТ ДЛЯ ОСАЖДЕНИЯ ПОКРЫТИЙ ИЗ СПЛАВА ГЕРМАНИЙ-НИКЕЛЬ
| название | год | авторы | номер документа |
|---|---|---|---|
| ЭЛЕКТРОЛИТ ДЛЯ ОСАЖДЕНИЯ ДЕКОРАТИВНЫХ МЕДНЫХ ПОКРЫТИЙ | 1991 |
|
RU2028386C1 |
| ЭЛЕКТРОЛИТ ДЛЯ НЕПОСРЕДСТВЕННОГО НИКЕЛИРОВАНИЯ АЛЮМИНИЯ И ЕГО СПЛАВОВ | 1992 |
|
RU2061104C1 |
| ЭЛЕКТРОЛИТ ДЛЯ ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ ПОКРЫТИЙ НИКЕЛЬ-БОР | 2008 |
|
RU2357015C1 |
| Способ электрохимического локального осаждения пленок пермаллоя NiFe для интегральных микросистем | 2015 |
|
RU2623536C2 |
| Электролит зеркально-блестящего никелирования | 1981 |
|
SU1006546A1 |
| Электролит для осаждения сплава олово-висмут | 1989 |
|
SU1712469A1 |
| СПОСОБ ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЯ ПОКРЫТИЙ СПЛАВОМ КОБАЛЬТ-НИКЕЛЬ | 2007 |
|
RU2349686C1 |
| ЭЛЕКТРОЛИТ ДЛЯ ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЯ ЦИНК-НИКЕЛЕВЫХ ПОКРЫТИЙ | 2015 |
|
RU2603526C1 |
| ЭЛЕКТРОЛИТ ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ ИЗ СПЛАВА НИКЕЛЬ-КАДМИЙ | 1991 |
|
RU2013469C1 |
| ЭЛЕКТРОЛИТ ДЛЯ ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ ФУНКЦИОНАЛЬНЫХ ПОКРЫТИЙ НИКЕЛЬ - БОР | 1993 |
|
RU2124072C1 |
Изобретение относится к гальваностегии, в частности к электролитическому осаждению покрытий из сплава германий - никель в контактные окна, вскрытые в слое фоторезиста, и может быть использовано для изготовления омических контактов.к полупроводниковым приборам.
Известны электролиты для осаждения покрытий из сплава германий-никель, содержащие соединения соосаждаегллх металлов и комплексообразователи: щавелевокислый аммоний и гидроокись аммония tin и Г2.
Однако известные электролиты не пригодны для осаждения сплава германий - винкель в контактные окна для полупроводяиковых приборов, фоторезист, используемый в качестве маскирующего покрытия, разрушается в щелочных растворах.
Наиболее близким к изобретению является известный электролит для осаждения покрытий из сплава германий никель, содержащий германат натрия, сульфат никеля и серную кислоту t.
Однако из этого электролита одновременйо с осаждением покрытия германий - никель происходит выделение водорода. Пузырьки водорода закрывают
часть поверхности контактного окна, а в случае маленьких окон {Ф2-5 мкм) всю поверхность окна, что приводит
5 к получению серых матовых неравномер. ных покрытий..
Целью изобретения является получение равномерных блестящих покрытий в контактных окнах полупроводниковых
IQ приборов.
Поставленная цель достигается тем, что электролит, содержаний сульфат никеля и соединение германия, дополнительно содержит винную кислоту и калий-натрий виннокислый, а в
5 качестве соединения германия - двуокись германия, при следующем соотношении компонентов, г/л:
Двуокись германия10-30 Сульфат никеля 5-15
20 Калий-натр.ий виннокислый20-150Винная кислота 6-16
Процесс осаждения рекомендуют 25 проводить при ,1-7,5, комнатной температуре и плотности тока 0,11,0 А/дм в течение 1-30 мин с использованием платинового анода.
Стаб.ильность электролита cocTaiB30 ляет 2-6 А.ч/л.
Осаждение ведут на пластины арсенида галлия с активными структурами, на которых методом фотолитографии в слое фоторезиста вскрывают контактные окна.
Верхний предел концентрации двуокиси германия (30 г/л) ограничен ее растворимостью, а нижний предел (10 г/л) ограничен качеством осадка. При содержании двуокиси германия в электролите ниже 10 г/л осадок
получается не блестящий и с темными i пятнами.
Качество получаемых осадков определяется визугшьно - отсутствие пятен, питтинга на поверхности покрытия, выделение водорода на катоде. Переходное сопротивление составляет Ом-см.
Изобретение иллюстрируется несколькими примерами, представленными в таблице.
