.1
Изобрете1гае относится к устройствам для избирательного нанесения гальванических покрытий, в частности, при создании гальванических контактных узлов предпочтительно у резисторов и других изделий из литого микропровода в стеклянной изоляции.
Известны способы и устройства для создания гальванических контактных узлов, в частности, на изделиях из микропровода в стеклянной изоляции, i
Недостаток данных устройств заключается в сравнительно большом расходе электролита. Кроме того, бесконтрольное растекание электролита приводит к недостаточной локализации места нанесения покрытия.
Наиболее близким к предлагаемому является устройство для избирательного нанесения гальванического покрытия, содержащее резервуар для электролита, внутри которого расположен анод и пористый материал, частично выступающий над резервуарок 2 .
Однако при достаточно хорошей ЛОКР лизации места нанесения покрытия .известное устройство не.обеспечивает необходимого качества покрытия иэ-за того, что в процессе работы происходит обеднение прикатодного слоя электрсмпИ та, нарушается процентное соотвеношение содержащихся в нем компонентов, что приводит к значительному ухудшению качества наносимого покрытия.
Цель изобретения - уменьшение расхода электролита при улучшении качества п окрытия.
Указанная цель достигается тем, чгр устройство для избирательного нанесения гальванического покрытия, содержащее резервуар для электролита, внутри которого расположен анод и пористый материал, частично выступаюшии над резервуаром, снабвкено крышкой с параллель20ными Еыступами, )ямекацими сквозные отверстия, в которых расположена выступ акяцая над резервуаром часть пористого материала, и дополнительным реэервуаром с анодом, пористым материалом и крышкой, идентичными по конструкции указанным резервуару, аноду и крышке, расположенным над первым резервуаром таким образом, что выступы на обеих крышках соприкасаются, а пористый материал совмещен друг с другом. На фиг. 1 изофажена дополнительная крьпяка; на фиг. 2 - разрез А&-А на фиг. 1 (резервуар); на фиг. 3 - устройство в собранном виде. Устройство содержит резервуар 1 с электролитом 2, в котором расположены анод 3 и пористый материал 4, часть которого выступает над резервуаром 1. На резервуар 1 надета крьпика 5, имеюжая по 1файней мере два выступа, параллельных мея:ду собой, при этом расстояние между Выступами 6 равно рассто нию между колпачками токоподводов резисторов 7. Выступы 6 имеют сквозны отверстия, в которьос расположена вьюту пающая над резервуаром 1 часть пористого материала 4. Указанные, сквозные отверстия на вьютупах 6 попарно соосны. Резисторы 7 уложены перпендикулярн выступам 6 так, что каждый из колпачк 8резистора 7 расположен на пористом материале 4. Дополнительнь1й резервуар 9(фиг, 3) с дополнительными ЕЙаодом 10и пористым материалом, конструкция которого аналогична описанной выше, расположен поверх основного резервуара 1 таким образом, что крышка 11 дополнительного, резервуара своими выстуПами соприкасается с выступами 6, а пористый материал 12 совмещен с пористым материалом 4 и колпачком 8 токоподводов резисторов 7. Предлагаемое устройство работает следукядим образом. После сборки устройства резервуары 1 и 9 скрепляют между собой, аноды 3 и 1О присоединякгг к плюсовой шине источника питания, а колпачки 8 токоподводов-- к минусовой (источник питания не показан). Затем собранное устройство переворачивают на 18О так, что резервуар 1 с электролитом 2 оказывается расположенным над резервуаро 9. Электролит 2 через пористый матеркал 4 поступает к колпачкам 8, на которых начинает происходить осаждение металла, смачивает пористый материал 12 и по нему поступает в резервуар 9, Таким образом, к колпачкам 8 все время поступает свежий электролит 2, что улучшает качество покрытия. Поступаю ший электролит 2 впитывается пористым материалом 12 и поступает в резервуар 9, что предотвращает непроизводительный расход электролита 2 и ограничивает участок нанесения покрытия тем, что покрытие происходит только на участках, соприкасающихся с пористым материалом 4 и 12. При необходимости получить более толстый слой покрытия после того, как болыиая часть электролита 2 перетечет из резервуара 1 в резервуар 9, устройство вновь поворачивают на 180 так, чтобы резервуар 1 оказался под ; резервуаром 9. Указанную операцию производят столько раз, сколько необходимодля получения покрытия требуемой толщины. Пористый материал 4 и 12 выбкрают с такими размерами пор, чтобы поступление электролита 2 определялось в основном капиллярными силами, а не силой гравитации. Так кек резистор 7 содержит обмотку на литого микропровода, корцы которой расположены на колпачках 8, то в результате осаждения металла 8 на них образуется контактный узел. Создание у резисторов из микропровода теплостойкого контактного узла значительно расширяет их эксплуатационные возможности. Экономический эффект создается как за счет экономии электроли- та (в частности электролита серебрения), так и от снижения технологических потерь при образовании контактного узла в резисторах из микропровода. Предлагаемое устройство предназначено для использования при серийном вьшуске терморезисторов. Формула изобретения Устройство для избирательного нанесения гальванического покрытия, содержащее резервуар для электролита, внутри которого J)acпoлoжeн анод и пористый материал, частично выступающий над резервуаром, отличающееся тем, что, с целью уменьшения расхода электролита при улучшении качества покрытия, оно снабжено крышкой с параллельными выступами, имеющими сквозные отверс1:ия, в которых расположена выступающая над резервуаром часть пористого материала, и дополнительным резервуаром с анодом, пористым материалом и крышкой, идентичными по конструк, 5 9623386
ции указанным резервуару, аноду и крьпы-Источники информации,
ке, расположенным над первым резер-принятые во внимание при экспертизе
вуаром таким образом, что выступы на1. Авторское свидетельство СССР
обеих крышках соприкасаются, а порис-№ 324109, вл. С 251) 5/О2, 1969.
тый материал совмещен, друг с дру-$ 2. Авторское свидетельство СССР
грм.,№ 360404, кл. С 25D 5/О6, 197О.
. В
У/////
ж
Х -./. / УХ
Фи9.1
А А
6 л
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
ГАЛЬВАНИЧЕСКИЙ БАРАБАН ДЛЯ ОБРАБОТКИ КРУПНЫХ И МЕЛКИХ ДЕТАЛЕЙ И ПАРТИЙ | 1990 |
|
RU2029800C1 |
ЭЛЕКТРОЛИЗЕР ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ АЛЮМИНИЯ ЭЛЕКТРОЛИЗОМ, АНОДНЫЙ БЛОК ЭЛЕКТРОЛИЗЕРА, СПОСОБ ПЕРЕНАЛАДКИ ЭЛЕКТРОЛИЗЕРА И СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ АЛЮМИНИЯ ЭЛЕКТРОЛИЗОМ | 1991 |
|
RU2101392C1 |
Линия для нанесения избирательного гальванического покрытия | 1982 |
|
SU1138437A1 |
Подвеска для избирательного гальванического покрытия полых изделий | 1983 |
|
SU1079702A1 |
Контейнер для нанесения электрохимических покрытий | 1982 |
|
SU1062318A1 |
ЭЛЕКТРОД ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ГАЛЬВАНИЧЕСКОГО ПОКРЫТИЯ ГАЛЬВАНО-МЕХАНИЧЕСКИМ МЕТОДОМ | 2006 |
|
RU2318927C1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ГАЛЬВАНИЧЕСКИХПОКРЫТИЙ | 1970 |
|
SU262031A1 |
УСТАНОВКА ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ГАЛЬВАНИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ НА НАРУЖНЫЕ ПОВЕРХНОСТИ ДЕТАЛЕЙ | 2022 |
|
RU2801976C1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЛОКАЛЬНОГО НАНЕСЕНИЯ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКИМ МЕТОДОМ | 2009 |
|
RU2402644C1 |
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ГАЛЬВАНИЧЕСКОГО ПОКРЫТИЯ НА ПРЕЦИЗИОННЫЕ МЕТАЛЛИЧЕСКИЕ НИТИ И УСТАНОВКА ДЛЯ ЕГО РЕАЛИЗАЦИИ | 2021 |
|
RU2751355C1 |
Авторы
Даты
1982-09-30—Публикация
1981-04-30—Подача