397
ми не превышает токопроводящего диаметра дугового шнура.
На чертеже представлена схема плазменного генератор.
Генератор содержит анод 1, катод 2, привод 3 вращения цилиндров - анода и возвратно-поступательного перемещения цилиндров вдоль их осей. Механизм 4 обеспечивает постоянное расстояние между цилиндрами, равное или меньшее токопроводящего ди аметра анодного пятна дугового шнура 5. Плазменный генератор работает следующим образом.
При включении блока 3 на анод 1 и катод 2 подают постоянное напряжение и осуществляют поджиг дугового разряда. При поджиге анодное пятно может равномерно установиться на любом из двух Щ1линдров. После формирования анод1гого пятна вращающийся анодный поток по касатель ной воздействует на плазменный шнур и прижимает его к поверхности другого цилиндра. Вследствие этого анодное пятно перескакивает на этот цилиндр, а затем процесс повторяется. Частота перехода анодного пятна с одного цилиндра на другой в зависимости от режима работы может находиться в пределах 5 10 Гц.
Возвратно-поступательное перемещение и вращение цилиндров обеспечивает эффективное распределение тепла по поверхности цилиндров, снижает, рабочую температуру поверхности и поэтому обеспечивает минимальную равномерную эррозию по всей дл11не цилиндров. Механизм автоматического поддержания расстояния между цилиндрами обеспечивает постоянные газодинамические условия в зоне анодного пятна.
Таким образом, предлагаемая конструкция плазменного генератора повышает пространственную устойчивость дугового iimypa, способствует снижению пульсаций параметров дуги и увеличивает КПД плазмотрона.
В экспериментах установлено, что пульсации электрических параметров при длине дугового шнура 200 мм уменьшаются по сравнению с одноцилиндрическим анодом на 50%, а отклонение оси дугового шнура от оси плазмотрона не превышает 1/20 его диаметра.
Формула изобретения
Плазменный генератор дугового типа, содержащий катод и перемещаемый анод, отличающийся тем, что, с целью повьсшения устойчивости дугового шнура и увеличения КПД генератора, аноя выполнен в виде двух параллельно расположеннь Х электрически связанных цигшндров, установленн1)1х с возможностью одновременного вращения вокруг своих осей в противоположные стороны, причем расстояние между цилиндрами не превышает токопроводящего диаметра дугоеОго шнура.
Источники информации, принятые во внимание при экспертизе
1.Патент Великобритании № 1248595, кл. П 5 Н, опублик. 1.11.71.
2.Авторское свидетельство СССР № 203805, кл. Н 05 В 7/18, 1967 (прототип).
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Устройство для высокотемпературной обработки поверхности диэлектрических материалов | 1978 |
|
SU880768A1 |
УСТАНОВКА ДЛЯ ЗАЩИТНО-ДЕКОРАТИВНОЙ ОБРАБОТКИ СТРОИТЕЛЬНЫХ МАТЕРИАЛОВ | 1994 |
|
RU2079410C1 |
СПОСОБ ПЛАЗМЕННОЙ ТЕРМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ ИЗДЕЛИЙ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ | 1997 |
|
RU2121514C1 |
СПОСОБ ПЛАЗМЕННОЙ ТЕРМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ ИЗДЕЛИЙ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ | 1996 |
|
RU2092580C1 |
ПЛАЗМЕННЫЙ ДУГОВОЙ ГЕНЕРАТОР | 1987 |
|
SU1519516A1 |
ИМПУЛЬСНЫЙ УСКОРИТЕЛЬ ИОНОВ МЕТАЛЛОВ | 1987 |
|
SU1639401A1 |
СПОСОБ ПЛАЗМЕННО-ДУГОВОЙ ОЧИСТКИ ПОВЕРХНОСТИ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ИЗДЕЛИЙ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО РЕАЛИЗАЦИИ | 2014 |
|
RU2626521C2 |
КОММУТИРУЮЩЕЕ СИЛЬНОТОЧНОЕ УСТРОЙСТВО | 2016 |
|
RU2638954C2 |
Анод электродугового плазмотрона | 1991 |
|
SU1786692A1 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ, УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ, СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ УСТРОЙСТВА ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ | 1989 |
|
RU2176681C2 |
Авторы
Даты
1982-11-15—Публикация
1978-06-28—Подача