Способ изготовления фотографических пластинок Советский патент 1983 года по МПК G03C1/74 C03C17/28 

Изобретение относится к изготовлению светочувствительных материалов и может найти применение при изготовлении фотографических пластинок, предназначенных япя целей микроэлектроники, радиоэлектроники и голографии.

Известен способ изготовления фотографических пластинок путем обработки стеклянной подложки раствором кремнийорганического соединения и нанесения на нее вспомогательного я светочувствительного галогенидосеребряного слоев, включающих желатину и дубитель tl.

Недостатком данного способа является низкая адгезия вспомогательного и светочувствительного слоев к стеклянной подложке вследствие отсутствия стадии термообработки подложки с нанесенным вспомогательным слоем.

Наиболее близким к предлагаемому по технической сущности, и достигаемому результату является способ изго- , товления фотографических пластинок путем обработки стеклянной подложки раствором четыреххлористого , промывки и сушкк обработанной подложки, нанесения на нее вспомогательного слоя, включающего желатину, прггаитой дополимер желатины и дубитель, термообработки при 118-180 С, промывки и суики, нанесения поверх всего светочувствительного галогенидосеребряного слоя, включающего желатину .и дубитель. Полученные фотопластинки обладают высокой адгезией вспомогательного и светочувствительного слоев к стеклянной подложке 2. .

Однако такой способ изготовления

10 фотографических пластинок не позволяет получить достаточно высокую адгезию вспомогательного и светочувствительного слоев к стеклянной подложке после химико-фотографической обработ15ки фотопластинок. Кроме того, выделение хлористого водорода- на стадии обработки подложки раствором четыреххлористого олова и последующей промывки приводит к ускоренной коррозии техно20логического оборудования.

Цель изобретения - увеличение адгезии вспомогательного и светочувствительного слоев к стеклянной подложке после химико-фотографической обра25ботки фотографических пластинок.

Поставленная цель достигается тем, что согласно способу :Нзготовления фотографических пластинок путем обработки стеклянной подложки раствором мо30 .дификатора, промывки, сушки, нанесения вспомогательного слоя, включающего желатину, привитой сополимер желатины и дубитель, термообработки, промывки, сушки , и нанесения светочувствительного галогенидосеребряного уСлоя,, включающего желатину и дубитель, перед термообработкой .подложку с нанесенным вспомогательным слоем облучают ультрафиолетовыми лучами мощностью 50-1000 Вт, а в качестве-модификатора используют кремнийорганическое соединение. При осуществлении способа стеклянную подложку предварительно моют рт посторонних загрязнений в растворе поверхностно-активного вещества и затем обессоленной водой. Пример. Стеклянную пластинку размером 76x76 мм окунают на 13 мин в раствор кремнийорганического соединения (3%-ный раствор винилтриэтоксисилана в ацетоне), Затем стеклянную пластинку промывают водой в течение 0,5-2 мин и высушивают. Далее на поверхность йодложки равномер но наносят 0,7 мл вспомогательного слоя, содержащего на 100 мл 0,75 г желатины, 0,75 г привитого сополимера желатины с бутилметакрилатом и 0,5 г хромо-калиевых квасцов в качес ве дубителя. Затем подложку с нанесенным вспомогательнБм слоем облучаю ультрафиолетовыми лучами с длиной волны Л 365 им мощностью 50 Вт в течение 30 с, после чего подвергают термообработке при 120-180 С в течение 3-10 мин, промывают в. воде и сущат. Далее на вспомогательный слой равномерно по всей поверхности наносят 1,7 мл светочувствительного гало генидосеребряного слоя, содержащего на 100 мл 5,6 г желатины, галогенид серебра с содержанием 2,0 гсеребра и 55 мг дубителя (смесь из 14 мг 1,З-триакрилаил-гексагидро-1,3,5 три азина и 41 мг 1,1 -тетраметиленбисфор мамид-диазиридина) . Нанесенный св.ето чувствительный слой студенят при 10° и сушат в потоке воздуха при . П р и м е р 2. Способ изготовлени фотографических пластинок осуществляют аналогично примеру 1. В качестве раствора кремнийорганического соединения используют 0,1%-ный раствор -З аминопропилтриэтоксисилана в воде. Облучение ультрафиолетовыми лучами проводят по длине волныД-290 им, мощ ностью 300 Вт в течение 1 мин. Пример 3. Способ изготовления фотографических пластинс к осущест вляют аналогично примеру 1. В качестве растворакремнийорганического соединения используют 2%-ный раствор виниламиносилана в этиловом спирте. Облучение ультрафиолетовыми лучами проводят на длине волны Л -220 им мощностью 1000 Вт в теч-ение 10 с.

Полученные по примерам 1, 2 и 3 фотографические пластинки подвергают ускоренному термостарению при и относительной влажности 65% в течение 16 ч. После этого проводят процесс химико-фотографической обработки в проявляющем и фиксирующем раст- ворах согласно технологическому регламенту № 6-17-223, и мокрые фотопластинк-и испытывают на адгезию вспомогательного-и светочувствительного слоев к стеклянной подложке. Для этого мокрую фотопластинку царапают остраконечным предметом и исследуют след царапины механическим способом. Результаты испытаний оценивают в условных единицах, при этом считают: степень адгезии А - отрлаивание слоев отсутствует; степень адгезии В - отслаивается небольшая часть слоев на пересечении царапин; степень адгезии С - отслаиваются части слоев вдоль царапин; степень адгезии D отслаиваются участки слоев, окруженные царапинами; степень адгезии Е - полностью отслаивается область, на которую были нанесены царапины; степень адгезии F - отслаиваются все участки, на которые были нанесены царапины, а также и те, на которые царапины не были нанесены. Сравнительные результаты испытаний фотографических пластинок приведены в таблице (адгезия вспомогательного и светочувствительного слоев к стеклянной подложке после химико-фотографической обработки фотопластинок, усл. ед.). Техническая характеристика ПротоА, в, С, D, Е., F тип Из таблицы видно, что/по сравненшо с прототипом, предложенный спо-соб дает возможность получить фото.пластинки с более высокой адгезией. Это позволяет увеличить выход годных фотопластинок. Таким образом фотографические пластинки, изготовленные по предлагаемому способу, обладают рядом эксплуатационных и экономических преимуществ. Высокая адгезия вспомогательного и светочувствительного слоев к стеклянной подложке позволяет.повысить тиражестойкость получаемых из фотопластинок фотошаблонов, применяемых для

изготовления микросхем, интегральных схем, печатных радиосхем, и тем самым уменьшить трудозатраты на их изготовление. Высокие адгезионные свойства фотопластинок позволяют уменьшить дефектность фоточшблонов, возникающую вследствие отслаивания светочувствительного слоя при низкой степени адгезии, что дает возможность изготовления продукции с уменьшенньми размерами элементов - е5олы11их интегральных схем. Кроме того, предлагаемый способ изготовления фотографических.пласти.нок с заменой в процессе стадии обработки подложки раствором четыреххлористого олова на обработку раствором кремнийорганического соединения увеличивает срок службы технологического оборудования вследствие зси 1едления процессов коррозииi

Формула изобретения

Способ изготовления фотографических пластинок путем обработки стеклянной подложки растворе модификатора, промывки, сушки, нанесения вспомогательного слоя, включающего желатину, привитой сополимер желатины и дубитель, термообработки, промывки,, сушки и нанесения светочувствительного галогенидосеребряного слоя, включающего желатину и дубитель, отличающийся тем, что, с целью увеличения адгезии вспомогательного и светочувствительного слоев к стеклянной подложке после химико-фотогра Фической обработки фотографических пластинок, перед термообработкой подложку с нанесенньаи вспомогательным слоем облучают ультрафиолетовыми лучами мощностью 50-100 Вт, а в качестве модификатора используют кремнийорганическое соединение.

Источники информации, принятые во внимание при экспертиза

1.Патент СССР 328607,

кл. G 03 С 1/10, 1972. .

2.Технологический регламент Переславского химзавода В 6-17-223, 1976 (прототип)..