Изобретение относится к конструк ции устройств для изготовления пленочных покрытий, в частности для получения керамических пленок, и мо жет быть использовано в электронной промьппленности. Известно устройство для литья пленки, содержащее стол с технологической подложкой, литьевую воронку, сообщающуюся с емкостью для шликера, и систему регулирования расхода шликера 1 . Однако данное устройство не обе печивает получения пленки стабильной толщины вследствие того, что давление вытеснения образовано тол ко гидростатическим давлением шликера в литье.вой воронке (фильере), которое значительно изменяется по мере его расходования. Наиболее близкими к предлагаемо му устройству являются устройства для литья, содержащие стол, технологическую подложку, закрепленную над ними литьевую воронку, сообщающуюся с резервуаром для шликера,и сис тему автоматического регулирования расхода шликера, например пневмосис тему, упругий элемент в виде сильфо на. Известные устройства повышают стабильность толщины отливаемой пле ки и обеспечивают условия автоматизации процесса литья С 2. Однако системы регулирования рас хода шликера, в частности поддержания его постоянного уровня в литьевой воронке, обеспечивающие непрерывность процесса литья и стабильность толщины получаемых пленок, сложны, что затрудняет их применение. Цель изобретения - повьш1ение ста бильности толщины отливаемой пленки и упрощение системы автоматического регулирования уровня шликера. Поставленная цель достигается тем, что в устройстве для литья керамической пленки, содержащем неподвижный стол с перемещающейся по нему технологической подложкой, установленную над ними литьевую ворон ку и систему автоматического регулирования уровня шликера в воронке, включакщую расходный резервуар для шликера и дозирующий орган, сообщающиеся друг с другом через литьевую воронку, выходная горловина расходного резервуара снабжена дросселем регулирования количества подаваемого в воронку шликера, и расположена вьппе установленного уровня шликера в воронке, а дозирующий орган вьтолнен в виде дополнительной герметичной емкости для шликера, выходная горловина которой расположена ниже установленного уровня шликера в воронке и снабжена регулировочным краном для подпитки шликера в воронку. На чертеже изображено предлагаемое устройство. Устройство содержит неподвижный стол 1 с перемещающейся по нему технологической подложкой 2, установленную над ними литьевую воронку 3 (фильеру) и систему автоматического регулирования уровня шликера в воронке 3, включающую расходный резервуар 4 для шликера, снабженный заправочной воронкой 5, выходной горловиной 6 с дросселем 7 регулирования количества подаваемого в воронку 3 шликера, и дополнительную заполненную шликером герметичную с помощью крьшки 9 дозирующую емкость 8, сообщающуюся через воронку 3 с резервуаром 4, выходная горловина 10 которой снабжена регулировочным краном 11 для подпитки шликера в воронку 3 по мере падения уровня шликера в ней за счет уменьшения гидростатического давления при расходовании шликера из воронки 3, поступакяцего в нее из резервуара 4. В данном случае скорость поступления шликера из расходного резервуара 4 в литьевую воронку 3 регулируется дросселем 7 и устанавливается меньшей, чем скорость его вытекания из воронки 3, а уровень птикера в ней настраивается въте горловины 10 дозирующей емкости 8 и ниже (с некоторым зазором Н) выходной горловины 6 резервуара 4, что обеспечивает поддержание постоянного уровня пшикера в воронке 3 за счет дополнительного автоматического поступления в нее порции шликера из емкости 8 по мере расходования шликера через воронку 3 из резервуара 4. Предлагаемое устройство работает следу ощим образом.
При закрытом кране 11 заполняют дозирующую емкость 8 шликером и герметично закрывают ее крышкой 9, Затем заполняют шликером расходный резервуар 4, заправочная воронка 5 которого сообщается с окружающей атмосферой. Далее регулировочным дросселем 7 устанавливают подачу шликера в литьевую воронку 3 таким образом, чтобы его поступление в воронку 3 было меньшим расхода из нее. При этом уровень шликера в воронке 3 устанавливается так, чтобы он перекрывал выходную горловину 10 дозирующей емкости 8 и имел некоторьй зазор Н с выходной горловиной 6 расходного резервуара 4. После этого открывают кран 11 герметичной емкости 8, приводом (не показан) приводят в движение технологическую подложку 2 и производят разлив шликера на нее известным способом
При этом при уменьшении в гфоцессе литья количества шликера в воронке 3, приводящем к падению установленного в ней уровня шликера,
вступает в работу дозирующая емкость 8, из которой дополнительная порция пшикера через горловину 10 поступает в воронку 3 и восстанавливает заданный уровень шликера и величину гидростатического давления в ней независимо от количества шЛикера в расходном резервуаре 4. При достижении установленного уровня шликера в воронке 3 за счет восстановления первоначального гидростатического давления подпитка шликера в воронку 3 и емкость 8 прекращается. Далее по мере расходования шликера цикл подпитки повторяется в процессе всего литья автоматически.
Применение предлагаемого устройства в производстве многослойных керамических конденсаторов в сравнении с известными обеспечивает повышение производительности литья в 1,5-2 раза и выхода годной пленки на 30-50%, а также сокращение расхода материалов на 25-30% при одновременном снижении трудоемкости процесса и улучшении качества изделий.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Устройство для литья пленки | 1978 |
|
SU722593A1 |
Установка для литья пленки | 1978 |
|
SU722595A1 |
Устройство для литья пленки | 1977 |
|
SU614823A1 |
Устройство для литья керамической пленки | 1986 |
|
SU1335470A1 |
Устройство для литья пленки | 1980 |
|
SU885020A2 |
Устройство для литья пленки | 1978 |
|
SU722594A1 |
Шликер для изготовления керамических пленок | 1983 |
|
SU1144155A1 |
Устройство для литья пленки | 1980 |
|
SU975404A1 |
Устройство для изготовления пленки | 1983 |
|
SU1147442A1 |
Устройство для литья пленки | 1981 |
|
SU1004098A1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЛИТЬЯ КЕРАМИЧЕСКОЙ ПЛЕНКИ, содержащее неподвижный стол с перемещающейся по нему технологической подложкой, установленную над ними литьевую воронку и систему автоматического регулирования уровня шликера в воронке, включающую расходный резервуар для шликера и дозирукщий орган, сообщающиеся друг с другом через литьевую воронку, отличающееся тем, что, с целью повышения стабильности толщины отливаемой пленки и упрощения системы автоматического регулирования уровня шликера, выходная горловина расходного резервуара снабжена дросселем регулирования количества подаваемого в воронку шли-кера и расположена вьште установленного уровня шликера в воронке, а дозируниций орган выполнен в виде дополнительной герметичной емкости для шликера, выходная горловина которой расположена ниже установленного уровня шликера в воронке и снабжена регулировочным краном для подпитки шликера в воронку.
Печь для непрерывного получения сернистого натрия | 1921 |
|
SU1A1 |
Устройство для литья пленки | 1977 |
|
SU614823A1 |
Кипятильник для воды | 1921 |
|
SU5A1 |
Аппарат для очищения воды при помощи химических реактивов | 1917 |
|
SU2A1 |
Устройство для литья пленки | 1978 |
|
SU722593A1 |
Кипятильник для воды | 1921 |
|
SU5A1 |
Авторы
Даты
1984-06-07—Публикация
1983-02-15—Подача