Устройство для литья пленки Советский патент 1980 года по МПК B05C5/02 

1

Изобретение относится к конструкции устройств для изготовления применяемьп в электронных приборах эмиссионных, металлизационнык, изоляционных и п. пленочных покрытий и может использоваться в радаоэлектронной промышленности.

Известно устройство для литья пленки, содержащее литьевую воронку, установленную над технологической подложкой l.

Однако это устройство не позволяетполучать стабильную толщину пленки вследствие того, что давление вытеснения образовано только гидроста-гаческим давлением шликера в воронке, которое значительно изменяется по мере его расходования.

Наиболее близким к предлагаемому является устройство для литья пленки, содержащее литьевую воронку, сообщаю- с резервуаром для жидкости 2,

ОднЕ1ко в воронке имеет место изменение давления вытеснения, что приво-

i дит к соответствующим изменениям толщины изготавливаемой пленки.

Цель изобретения - стабилизация топ- пщны пленки.

Цель достигается тем, что в устройстве для литья пленки, содержащем литьевую воронку, сообщающуюся с резервуаром для жидкости, воронка подвешена на упругом элемента, соединяющем её с резервуаром и выполненным в виде на, трубки Бурдона или мембраны.

На фиг. 1 схематически изображено устройство для литья пленки с упругим элементом в виде сильфонл; на фиг. 2 то же, упругий элемент в виде мембраны; на фиг. 3 - то же, упругий элемент в виде трубки Бурдона.

Устройство для литья пленки содержит стол 1, технологическую подложку 2. Над столом жестко закреплен резервуар 3. К резервуару 3 подвешена с помощью упругч)го элемента воронка 4, полость которой сообщается с полостью резервуара через упрзтий элемент, выполненный

в виде сильфона 5. ЕЗороика 4 снабжепа демпфирующим пружинным параллелограммом 7.

Унрутий элемент может быть вынолнен в виде мембраны 6 или в виде изогнутой трубки - трубки Бурдона 8 (фиг. 3

Устройство работает следующим образом,

В резервуар 3 заливают литейную жикость (шликер) до заданного уровня. Одновременно заполняется и воронка 4, которая под действием гидростатического давления опускается, преодолевая сопротивление упругого элемента 5, 6 или 8, до рассчитанного на необходимый расход зазора между воронкой и подложкой. При этом упругий элемент 5, 6 или 8 накапливает потенциальную энергию за счет упругой деформации под действием нагрузки {гидростатического давления). По мере расхода жидкости из воронки на двин утуюся подложку 2 давление в системе резервуар-воронка падает, в результате чего постепенно снижается степень воздействия нагрузки на упругий элемен который, используя накопленную энергию постепенно восстанавливает свою форму, приподнимая при этом воронку ;над подложкой и увеличивая тем самым зазор. Увеличение зазора компенсируетпадение давления, в результате чего расход жидкости остается постоянным. Это в свою очередь обеспечивает стабильность толщины пленки.

Демпфирующий пружинный параллелограмм 7 устраняет качания литьевой во ч КхЧр jf -,- I nryii II T,fl ТЧТ Щ J

ронки (может бы7Ъ заменен на направляющие).

Использование предлагаемого устройсва позволяет получать высококачественную метад;1{оорганическую пленку, применяемую в гибридных интегральных схемах, электронных вакуумных приборах и т, д.

Формула изобретения

1. Устройство для литья пленки, содержащее литьевую воронку, сообщающуюся с резервуаром для жидкости, о т л ч ающееся тем, что, с целью стабилизации толщины пленки, воронка подвешена на упругом элементе, соединяющем ее с резервуаром.

2. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что упругий элемент выполнен в виде сильфона.

3.Устройство по п. 1, отличающееся тем, что упругий элемент выполнен в виде трубки Бурдона.

4.Устройство по п. 1, отличающееся тем, что упругий элемент выполнен в виде мембраны.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1.Авторское свидетельство СССР № 432935, кл. В О5 С 5/О2, 1971.

2.Патент США № 2974364,

кл. 264-213, опублик. 1961 (прототип L .ч. I- -. I .1..,,, I La gXgSt dl j O$f k X.Vii XySAA pvv x//V// , Фи. 2

V/Л

Фо-аЗ