со со
4 О ГО
со
Изобретение относится к измерительной технике, в частности к способам Измерения геометрических параметров, И может быть использовано для контро- Пя отклонения от плоскостности полупроводниковых пластин.
Цель изобретения - повышение точности контроля за счет обеспечения ди (амического перераспределения напря- ений в устойчивую форму.
На чертеже представлена схема уст- ойства, реализующего предлагаемый способ.
: Устройство для осуществления спо- соба содержит базовый стол 1 с системой 2 вакуумирования и плоской рабочей поверхностью 3. Базовый стол 1 прикреплён к линейному позиционеру 4. Оппозитно базовому столу 1 установлен (шок 5 измерительных преобразователей (), наконечники которых установлены в плоскости, эквидистантной рабочей по- иерхности 3 базового стола 1. Выходы измерительных преобразователей 6 сое- |(инены с входом электронного блЬка 7 (| бработки. По периметру базового сто- jjia 1 установлено подвижное ступенча- |рое кольцо 8.
Способ осуществляется следующим |эбразом.
; Полупроводниковую пластину 9 уста- авливают на базовый стол 1 измерительного устройства и включают вакуу- мирование рабочей поверхности 3 базо- JBoro стола 1 , Время нарастания вакуумирования не превьшает 0,1 с. Под действием атмосферного давления полупроводниковая пластина импульсно вы- |равнивается на рабочей поверхности 3 базового стола 1. После вьщержки в нагруженном состоянии (не менее 1 с) вакуумирование импульсно снимают,для гарантии релаксации в свободноравно
весное состояние перемещения кольца 8 вверх бегущим отрывом (от периферии к центру) отделяют полупроводниковую пластину 9 от поверхности базового стола 1. Без изменения позиционного положения полупроводниковой пластины перемещением кольца 8 вниз ее вновь устанавливают на поверхность базового стола 1 и измеряют отклонение формы.
Измерение выполняют перемещением позиционера 4 до касания наконечниками всех преобразователей 6 поверхности пластины 9. Измерительный трак электронного блока 7 вьщеляет сигналы максимального и минимального расстояния (. и Ьд,и„ ) от поверхности базового стола до соответствующих точек измерения поверхности полупроводниковой пластины 9. Разность этих значений и составляет отклонение формы.
Формула изобретения
Способ контроля отклонения формы полупроводниковых пластин, заключающийся в том, что устанавливают пластину на базовую поверхность, измеряют максимальное и минимальное расстояния от базовой поверхности до соответствующих точек измеряемой поверхности пластины и по разности этих значений определяют отклонения формы, отличающийся тем, что, с целью повьппения точности контроля, перед измерением пластину импульсно нагружают равномерной нагрузкой путем прижатия ее к базовой поверхности, вьщерживают при этой нагрузке и снимают нагрузку путем последовательного отрыва пластины от базовой поверхности, начиная от ее периферии по направлению к центру.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Устройство для контроля полупроводниковых пластин | 1981 |
|
SU1013744A1 |
Электроконтактный датчик | 1988 |
|
SU1633259A2 |
Устройство для контроля геометрических параметров полупроводниковых пластин | 1982 |
|
SU1048305A1 |
Способ контроля геометрических параметров пластин и устройство для его осуществления | 1990 |
|
SU1770730A1 |
Устройство для контроля геометрических параметров полупроводниковых пластин | 1982 |
|
SU1106983A1 |
Устройство для контроля изгиба полупроводниковых пластин | 1981 |
|
SU1111023A1 |
Устройство для автоматизированного контроля соосности и центровки механических конструкций | 2016 |
|
RU2639993C1 |
Способ измерения позиционного отклонения отверстий, координированных относительно центрального отверстия детали | 2016 |
|
RU2627542C1 |
Способ измерения параметров паза на наружной сферической поверхности детали | 2022 |
|
RU2785969C1 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПО АНАЛИТИЧЕСКОЙ ИНФОРМАЦИИ КОМПЕНСАТОРНЫХ ТРУБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ (ВАРИАНТЫ) | 1996 |
|
RU2126305C1 |
Изобретение относится к измерительной технике. Цель изобретения - повышение точности контроля за счет обеспечения динамического перераспределения напряжений в устойчивую форму. Способ осуществляют в следующей последовательности. Контролируемую полупроводниковую пластину 9 размещают на поверхности 3 базового стола 1, динамически погружают равномерной погрузкой (вакуумированием) путем прижатия ее к поверхности стола, выдерживают под погрузкой, снимают погрузку путем последовательного отрыва пластины 9 от периферии к центру, затем без изменения позиционного положения устанавливают пластину 9 на поверхности 3 базового стола и проводят измерения, для чего наконечники всех преобразо- вателер 6 перемещением позиционера 4 вводят до контакта с поверхностью пластины 9. Электронный блок 9 выделяет сигналы максимального и минимального расстояний от поверхности 3 базового стола 1 до соответствующих точек измеряемой поверхности. Разность этих расстояний и составляет отклонение формы. 1 ил. с сл
Устройство для контроля изгиба полупроводниковых пластин | 1981 |
|
SU1111023A1 |
Печь для непрерывного получения сернистого натрия | 1921 |
|
SU1A1 |
Авторы
Даты
1988-05-07—Публикация
1986-08-07—Подача