Изобретение относится к области производства радиоэлементов, в частности к оборудованию для производства оксидио-полупроводниковък конденсаторов .
Цель изобретения - повьшение производительности в работе и улучшение качества изделий за счет обеспечения переворота кассеты при перемещении ее конвейером в процессе обработки.
На фиг.1 изображена кинематическая схема предлагаемого устройства; на фиг,2 - кассета с анодами конденсаторов; на фиг.3 - разрез А-Л на фиг.2; и.а фиг. 4 - узел 1 на фиг , 3; на фиг. 5 и 6 схема поворота кассеты; на фиг.7-9 - фрагменты конс:труки 1и транспортирующего механизма; на фиг.10 - схема нанесения полупроводниковог о слоя на аноды кондрисаторов; на фиг.11 ванна подформовки с электродам ; на фиг, 12 - разрез Б-Б на фиг.11; на фиг, 13 - разрез В-В на фиг.11; на I. ;i .14 - rpaibnK злви имости напряж -- , i ОТ д гины электрода.
Ус т р о;- к: т во содер; шт транспортирующий механизм, содержаний вертикально лмкнуты конвейер 1 с кассетами 2.. а также liiiHHbi 3-6 пропитки, печи 7 и 8 пиролиза, установленные на гори- зо1 тальнЕ::х ветвлх конвейера 1, печи 9 и 10 пиролиза, уста говленные на- вертикальных ретвях конвейера, и ванны 11 подформовки,
Каж;т;ая кассета 2 выполнена в виде рамки, имеющей параллельные пазы 12 в боковых стенках 13 на которых ус- тчновлены направляющие планки 14. Иланки 14 снабжены осями 15, расположенными в V-образных пазах 16 звеньев 17 конвейера 1.
Электроды ванн 11 подформовки выполнены в виде ПОДВИЖНО1Т 16 и непо
действуя с копирами 20 поворачива- , ются на 180 для пропитки верхнего ряда анодов 23. По окончании пропитки обоих рядов анодов 23 кассеты 2 перемещаются конвейером 1 в вертикальную печь 9 пиролиза для разложения пропиточного раствора и формирования первого полупроводникового слоя, при этом вследствие стекания раствора на нижней части боковой поверхности анодов образуется утолщенный слой (, положение I),
При дальнейшем ДВИ;Ч-РНИИ конвейера кассеты 2 с анодами 23 попадают в следующие ванны 4 пропит П, гдг пропитываются поочередно с двух ciopo i и входят в горизонтальную печь 7 пиролиза, в которой формируется на анодах второй полупроводниковый слой, утолщенный к нижнему торцу анодов 23 (фиг. 10, положение II), По вьгхолу и печи 7 аноды 23 вновь поочередно пропитываются в ванне 5 и в вертикальной печи 10 формируется третий спои,
утолщенный в нижней (противополо)-ной / первому слою) части боковой поверхности анодов 23 (фиг,10, положение
III), Затем аналогичн ф-1 образом в печи 10 образуется на анодах 23 четнйр- тый слой, утолщенный к верхне;-1у торду
I анодов 23 вследствие стекания пропи- тсчного раствора (фиг.10, положение
IV). После нанесения последнего полупроводникового слоя аноды 23 попадают в ванны 11 подформоЕки, в которых при непрерывном движении поочередно с двух сторон происходил злект- рсхимическая тренировка (фиг.13); причем напря;кение подформовки возрастает до номинального (фиг.14) по мере приближения анодов 23 к подвижному электроду 18, изменение положения которого в ванне позволяет регулировать
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Устройство для нанесения полупроводникового слоя на аноды конденсаторов | 1981 |
|
SU951436A1 |
Линия для изготовления оксидно-полу-пРОВОдНиКОВыХ КОНдЕНСАТОРОВ | 1979 |
|
SU851511A1 |
Устройство для нанесения полупроводникового слоя на аноды оксиднополупроводниковых конденсаторов | 1972 |
|
SU452044A1 |
Автоматизированная линия изготовления радиодеталей | 1978 |
|
SU763987A1 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЙ ИЗ ДИОКСИДА МАРГАНЦА НА ТАНТАЛОВЫХ АНОДАХ ОКСИДНО-ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ КОНДЕНСАТОРОВ | 2020 |
|
RU2740516C1 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ КАТОДНОЙ ОБКЛАДКИ ОКСИДНО-ПОЛУПРОВОДНИКОВОГО КОНДЕНСАТОРА | 2011 |
|
RU2480855C1 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ КАТОДНОЙ ОБКЛАДКИ ОКСИДНО-ПОЛУПРОВОДНИКОВОГО КОНДЕНСАТОРА | 2012 |
|
RU2516525C1 |
Способ изготовления алюминиевого оксидно-полупроводникового конденсатора | 1982 |
|
SU1084907A1 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ КАТОДНОЙ ОБКЛАДКИ ОКСИДНО-ПОЛУПРОВОДНИКОВОГО КОНДЕНСАТОРА | 2005 |
|
RU2284070C9 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ КАТОДНОЙ ОБКЛАДКИ КОНДЕНСАТОРА И ОКСИДНО-ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЙ КОНДЕНСАТОР | 2011 |
|
RU2463679C1 |
Изобретение относится к радиотехнике. Устройство для нанесения полупровод1шкового слоя подформовки анодов конденсаторов содержит транспортирующий механизм в виде вертикально замкнутого конвейера (ВЗК) с кассетами 2, ванны 3-6 пропитки, печи. 7,8 пиролиза, установленные на горизонтальных ветвях ВЗК 1, и печи 9,10 пиролиза, установленные на его вертикальных ветвях, ванны 11 пофор- мовки. Каждая кассета вьшолнена в виде рамки с пазами в боковых стенках и направляющей планкой, взаимодействующей с плоскими копирами 20 транспортирующего механизма для поворота кассеты 2 в нужное положение в процессе работы. Устройство высокопроизводительно. 14 ил. с (Л
движной 19 пластин. Для поворота скорость нарастания напряжения и то- : .--т 2 установлены копиры 20, а а меска подформовки для различных типов и.зделий во избежание пробоя оксидной
ах nepf TOpoTa кассет
на нижней
1 установлены планки 21 .
Ус грп; с гво pa6i3T.:ieT следуюп1 1М образом,
Кассг-ы 2 с предвпрительно paat.ie- щенными в пазах 12 peujeTKaNDi 22 с - анодами 23 конденсаторов устанавливают 15 р 16 звеньев 17 конвейера 1, который перемещает их Р ванну 3 пропитки, 1..к;ле пропитки нижнего ряда анодов 23 кассе- ы 2 пе ремещаются конвейеров 1 и, зздимоскорость нарастания напряжения и то-
ка подформовки для различных типов и.зделий во избежание пробоя оксидной
пленки,
I
Последоватепьная обработка пропитанных анодов конденсаторол R двух горизонтальньтх и двух вертик;альньгх печах пиролиза исключает неравномерность нанесения noJrynpoBOAiniKiTBoro слоя, что позволяет улучиить качество изделий. 1Сроме того, пс1 евпрот кассеты позволяет использовать ее с друх сторон, что увеличичзет загрузку устройства и повышает его производительность ,
Формула изобретения Устройство для нанесения полупроводникового слоя и полформовки анодов конденсаторов, содержащее транспортирующий механизм в виде вертикально замкнутого конвейера с кассетами, ванны для рабочего раствора, установленные на верхней ветви конвейера и печи пиролиза, установленные на верхней и нижней ветвях конвейера, отличающееся тем, что, с целью повьшения производительности и улучшения качества изделий, оно снабжено дополнит ел ЬНЬЕМИ
/V
л
/5
А-А
iiUiiiiii
Фиг,3
печами пиролиза, установленными иа вертикальных ветвях конвейера и дополнительными ваннами для рабочего раствора, установленными на верхней и нижней ветвях конвейера попарно с основными ваннами с двух сторон каждой печи пиролиза по ходу перемещения конвейера, транспортируюпшй механизм снабжен плоскими копирами, установленными неподв11жно, а каждая кассета снабжена направляющей планкой, установленной с возможностью взаимодействия с плоскими копирами транспортирующего механизма.
Фиг.2
Ч
и U
г
ФигЛ
а S.
ЭЕ
л
7///////
7 26
12 Jtf
шм 77
ШЁ
/5
/
t
Щ|
/5
п / и -
///////77
S -Ql
)
VУХ
П7777777
/////////
17
/////////
/////7/77
Фиг.б
Фиг. 7
Ф
Фиг.
15
/
21
Фиг
Б
/
18
Фи519
хЧ
;;
13
л
18
Фиг. 11
/
. 9
Фиг12.
w
в-в
Фиг.1
Редактор Л. Гратилло
Составитель Г, Падучин
Техред л.Олийнык Корректор И, Муска
Заказ 2603/51
Тираж 746
ВНИИПИ Государственного комитета СССР
по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5
W
9
jr
Фиг. Iff
Подписное
Устройство для нанесения полупроводникового слоя на аноды оксиднополупроводниковых конденсаторов | 1972 |
|
SU452044A1 |
Печь для непрерывного получения сернистого натрия | 1921 |
|
SU1A1 |
Печь для непрерывного получения сернистого натрия | 1921 |
|
SU1A1 |
Авторы
Даты
1988-05-23—Публикация
1986-03-25—Подача