Способ изготовления рельефных форм Советский патент 1991 года по МПК C25D1/10 

Изобретение относится к гальванопластике и может быть использовано во всех отраслях народного хозяйства, занимающихся изготовлением рельефных форм, преимущественно формообразующих элементов технологической оснастки, предназначенных для формообразования изделий, имеющих разновысокие элементы (фактуры поверхностей, шрифты, эмблемы, товарные знаки и т.п.).

Цель изобретения - расширение ассортимента получаемых изделий.

Пример 1. Изготовляют рельефную форму (матрицу пресс-формы) для литья под давлением изделий Ученический трафарет из полистирольного пластина марки ПСМД-А. Толщина изделия 1.4 мм, при этом геометрические фигуры высотой 1,4 мм, надписи и цифры 0,30 мм, риски шкал линейки и транспортира 0,20 мм. Для того чтобы получить модели с такой высотой элементов, определяют по формуле С .2,3 а2 минимальную ширину непрозрачных элементов фотошаблона а, необходимую для проявления фотополимерного слоя на требуемую глубину (С). Для геометрических, фигур высотой 1,4 мм минимальная ширина непрозрачного элемента-должна быть на фотошаблоне 0,79 мм; для надписей и цифр высотой 0,30 мм соответственно 0,35 мм, для рисок шкал линеек и транспортира высотой 0,15 мм соответственно 0,25 мм. Зная соотношение глубины проявления фотополимерного слоя модели и минимальной ширины непрозрачных элементов, изготовляют фотошаблон. Металлическую подложку (основа - хромированная жесть марки ХЛЖК) с термоотвержденным адгезионноп- ротивоореольным слоем (необходимым для связи материала подложки и фотополимео о о о о ю

ризующейся композиции и уменьшения отражения света от подложки) устанавливают на верхней полукассете (магнитной) установки экспонирования ФЛЭ-66. а на нижнюю полукассету накладывают последовательно фотошаблон, ростовую ограничительную планку с толщиной 1,4 мм, полиэтилентерефталатную пленку, после чего включают вакуумный насос-компрес- сор и создают разрежение (до 1,0 мм рт.ст. - остаточное давление). При этом фиксируют положение фотошаблона, ростовой ограничительной планки на кварцевом стекле (основании нижней полукассеты). Затем опускают верхнюю полукассету на нижнюю (создают замкнутый объем с щелью 1,4 мм), обеспечив прижим полукассет давлением 10-12 МПа от гидросистемы установки.

В полученную полость заливают фото- полимеризующуюся композицию на основе ненасыщенных полиэфиров (Ликофот--Т22), Состоящую из ненасыщенной полиэфирной Смолы ПН-37, фотоинициатора 2,2-диме- токси-2-фенилацетофенона, фотоингибитора N-нитрозодифениламина, взятых при концентрациях соответственно 99,23 0,75 и 0,02%. Затем включают источник УФ-излу- чения с длиной волны 320-400 нм (лампа ДРГТ-3000) и экспонируют изображение детали через фотошаблон, после чего разбирают установку и проявляют (на машине вымывной ФВФ-55К) необлученные участки композиции водным раствором (10 г/л) кальцинированной соды.

После проявления рельефа модели проводят зэдубливание ее светочувствительного слоя (для повышения гальваностойкости) Для этого модели помещают в установку дополнительной обработки ФЛО-66, где одновременно проводят облучение УФ-из- лучением в течение 7 мин (лампа ЛУФ-80 мощностью 40 Вт, количество ламп в панели 12 шт.) и термообработку при 105-115°С. Полученную фотополимерную модель (для создания жесткости) наклеивают клеем ПУ- 2 на пластину из оргстекла толщиной 8- 10 мм, Для придания модели юкопроводящих свойств поверхность ее металлизируют сульфидом меди, Металлизация включает следующие операции (последовательно): сорбцию поверхности модели в водном растворе, состоящем из сернокислой меди 10-100 г/л, сернокислого цинка 50-100 г/л, 25%-ного водного амми- ака-200 мл/л; гидролиз модели в холодной воде и сульфидмрование в водном растворе сернистого натрия концентрацией 10- 50 г/л. Подготовленные модели завешивают в гальваническую установку, где осаждают последовательно слой сплава никель-кобальта толщиной 2,0 мм и медь тол- 1 щиной 5-6 мм из сульфаминовокислых электролитов следующих составов, г/л:

Сульфаминовокислый электролит осаж- дения сплава никель-кобальта Сульфаминовокислый никель330-340

Сульфаминовокислый кобал ьт15-20

0 Двухлористый никель2-4

Натрийлаурилсульфат0,7-1,0

Борная кислота30-40

рН3,0-3,5

Катодная плотность

5 тока, А/дм25,0

Температура электролита, °С40-55 Сульфаминовокислый электролит осаждения меди 0 Сульфаминовокислая

медь200-260

Серная кислота80-100

Пирофосфорнокислый калий2,8-5,0

5рН0,3-0,8

Катодная плотность тока, А/дм21-2

Температура электролита, °С25-30 0 После получения требуемой толщины модель с гальванопластическим осадком извлекают из гальванопластической установки, обрабатывают осадок относительно базовой поверхности модели на металлоре- 5 жущем оборудовании и извлекают модель на ручном винтовом прессе. В полученных матрицах (после установки их в пресс-форму) отливают пластмассовые изделия Ученический трафарет, прм этом качество 0 изделий (четкость рельефа) хорошее,

П р и м е р 2. Изготовляют гальванопластикой рельефную форму (состоящую из двух симметричных полуматриц) для литья изделий Расческа из этрола АПЦЭ- 5 15-5. Ручка расчески имела фактурирован- ную поверхность. Полумодели (левая и правая в зеркальном отображении) получают из фотополимерной композиции Лико- фот-Т22. Толщина полумоделей (с учетом 0 технологического припуска) 2,4 мм. Высота рельефа фактуры на ручке 0,25 мм Тип фактуры крупный, номер 1593 по каталогу фактур поверхностей. Для того, чтобы получить полумодели с такой высотой элементов по« 5 формуле С 2,3 а , минимальная ширина непрозрачных элементов на фотошаблоне для тела и зуба модели 1,02 мм, для фактуры 0,33 мм. Зная соотношения глубин проявления фотополимерного слоя модели и минимальной ширины непрозрачных элементов,

изготовляют фотошаблон. Композициюоснастки, включающий нанесение на метал Ликофот-Т22 заливают в полость установ-лическую подложку фотополимеризующейкиФЛЭ-л66сщелью2,4ммидалееизтотов-ся композиции, экспонирование через

ляют полумодели, а по ним полуматрйцы фотошаблон соответствующего рельефа,

гальванопластикой аналогично примеру 1.5 проявление фотополимерного слоя и послеВ полученной форме отливают изделиядующее гальваническое осаждение метал Расческа. Изделия получают с четким про-лического слоя, отличающийся тем,

филем тела зубьев и фактуры на ручке.что, с целью расширения ассортимента получаемых изделий, проявление фотополиФормула изобретения10 мерного слоя осуществляют на разную

глубину С в зависимости от минимальной

Способ изготовления рельефных форм,ширины непрозрачных элементов фотошабпреимущественно деталей технологическойлона а при их соотношении С 2,3 а2.

Изобретение относится к гальванопластике, в частности к изготовлению рельефных форм с разновысокими элементами. предназначенных для получения изделий различного назначения. Цель изобретения - расширение ассортимента получаемых изделий. На металлическую подложку наносят фотополимеризующуюся композицию. Экспонирование через фотошаблон соответствующего рельефа и проявление фотополимерного слоя на разную глубину в зависимости от требуемого рельефа изделия осуществляют исходя из соотношения С 2,3 а , где С - глубина проявления, а - минимальная ширина непрозрачных элементов фотошаблона. После проявления производят гальваническое осаждение металла необходимой толщины и отделение полученной формы.