Устройство для доводки плоских поверхностей деталей Советский патент 1981 года по МПК B24B37/04 

Описание патента на изобретение SU891385A1

(54) УСТГОЙСТВО ДЛЯ ДОВОДКИ ПЛОСКИХ

I

Изобретение относится к абразивной обработке и может быть использовано для доводки плоских поверхностей деталей из различных пьезо- и полупроводниковых материалов.

Известно устройство для обработки плоских поверхностей деталей, размещенных в пазах сепаратора и поджатых к рабочему диску с помощью механизмов прижима, установленных в пазах сепаратора и связанных с источником рабочей среды Ц.

Однако нестабильное проворачивание обрабатываемых пластин вокруг своей оси, обусловленное адгезионным залипанием .пластин на поверхности верхней части поршня, снижает точность обработки, в частности плоскопараллельность. Проворачивание обрабатываемой пластины относительно верхней поверхности поршня приводит к износу его базовой поверхности. Это, в свою очередь, ухудшает точность обработки пластин и требует многократного проведения операции восстановления геометрии верхней поверхности поршня. Износ базовой поверхности поршня приводит также к увеличению разброса пластт по тожципе в ПОВЕРХНОСТЕЙ ДЕТАЛЕЙ

одной партии. В то же время степень износа поверхности верхнего поршня, например при шлифовке крюмниевых пластин, значительна, так как приближающийся по твердости к алмазу кремний практически стачивает любой материал поршня.

Кроме того, известное устройство невозможно использовать для пластин, к базовой поверхности которых предъявляются определенHbie требования (полированная поверхность без

10 нарушенното слоя или поверхность с нанесенной на нее интегральной схемой), так как в процессе контактирования с поверхностью верхнето поршня базовая поверхность обраба- тьшаемой пластины изнашивается и имеет задиры. Недостатком при односторонней обработке пластин, жестко закрепленных на держателе или нестабильно проворачиваюшихся, является вероятность образования клиновидности и неплоскОстности, обусловленная разностью

20 скоростей перемещения пластин в радиальном направлении относительно держателя.

Цель изобретения - hoBbmieiine точности обработки деталей. Поставленная цель достигается тем, что ме ханизм прижима выполнен в виде разделительной мембраны, на поверхности которой, обращенной к притиру, закреплено жесткое кольцо с расположенными по периметру и равноудаленными друг от друга, по крайней мере, тремя отверстиями, мембрана образует замкну тую полость, соединенную, как и отверстия в кольце, с источником рабочей среды. На чертеже изображено предлагаемое устройство, продольный разрез. Устройство содержит доводочный диск 1 (притир), закрепленный на валу 2 вращения. Над диском 1 установлены сепараторы 3 с пазами 4 для размещения обрабатываемых иластин 5. В пазу 4 сепаратора 3 размещен механизм нагружения, выполненный в виде разделительной мембраны 6, изготовленной из упругого ма-, териала, например резины. На поверхности мембраны 6, обращенной к поверхности обрабатываемой пластины 5, закреплено жесткое кольцо 7, например стальное, с расположенными по периметру и равноудаленными друг от друга тремя или более калиброванными от верстиями 8. Кольцо 7 соизмеримо с обрабатываемой Пластиной 5. Мембрана 6 в пазу 4 сепаратора 3 образует замкнутую полость 9, имеющую подвод 10 дляо рабочей среды. Отверстия 8 и подвод 10 соединены между собой посредством клапана 11 разности давления и связаны с источником рабочей среды с помощью редуктора 12 Давления. Паз 4, смежный с замкнутой полостью 9, соединен с атмосферой отверстием 13. Устройство работает следующим образом. Обрабатываемые пластины 5, например полу проводниковые, закрепляются на поверхности кольца 7 с помощью вакуума, создаваемого через подвод 10, замкнутую полость 9 и отве стия 8 в кольце 7. После этого притиру 1 и сепаратору 3 сообщается вращательное движение, а в зону обработки (на поверхность притира 1) подается абразивная суспензия. Вакуум отключают и в подвод 10 и отверстия 8 подается, например, сжатый воздух. При этом пластина 5 отрывается от поверхности кольда 7 и прижимается к притиру 1 воздущной под т11кой, образованной в зазоре между базо вой поверхностью обрабатьгеаемой пластины 5 и кольцом 7. При зтом определенная часть сжатого воздуха выходит через отверстие 13, что предотвращает образование избыточного давления в паз 4 сепаратора 3. Воздушная подушка, образованная между ко)тьцом 7 и пластиной 5, поддерживается постоянной по толщине (независимо от толщины обрабатыва мой пластины или усилия прижима, регулируе мого с помощью редуктора 12 давления) кла паном 11 разности давлений. На входе и клапана неизменно ш)держивается постоянная разность давления независимо от величины давления, подаваемогч на вход редуктора 12 давле {ия. Оптимальная величина зазора между кольцом 7 и пластиной 5 (воздун ая подушка) устанавливается с помощью эталонного сепаратора, идентичного сепаратору 3, в теле которого встроен микрометрический индикатор, взаимодействующий с поверхностью кольца 7. Регулируя разность давления в клапане 11, подбирают оптимальную (заданную) величину зазора между кольцом 7 и обрабатываемой пластиной 5, которую определяют по микрометрическому винту эталонного сепаратора (не показано). Так, например, при доводке кремниевых пластин оптимальная велишна зазора составляет ориентировочно 20-50 мкм. Такой зазор исключает возможность контактирования поверхности кольца 7 с поверхностью обрабатьшаемой пластины 5, а также обеспечивает экономичный расход рабочей среды. Калибровашаю отверстия 8, расположенные равномерно по периметру кольца 7 и равноудаленные друг от друга, являются стабилизаторами величи11ы зазора по всей окружности, соизмеримой с размерами обрабатываемой пластины 5. Это исключает возможность контактирования края кольца 7 с пластиной 5 в процессе взаимодействия с полирующим материалом, когда обрабатываемая пластина 5 соверщает сложные (колебательные и вращательные) движения и, кроме того, исключается образова1ше перекосов, обусловленное неточностями конструктивного изготовления устройства. После окончания рабочего процесса прекращают подачу рабочей среды, а подвод 10 и отверстия 8 соединяют с вакуумной системой. Пластина 5 присасывается к поверхности кольца 7, а мембрана 6 отрывает ее от поверхности притира 1. Сепаратор 3 выводится из зоны обработки, отключается вакуумная система и обработанные пластины 5 выгружают. Затем цикл повторяется. Изобретение исключает залипание пластины в процессе обработки, так как упомянутая пластина, свободно установленная в пазу сепаратора, соприкасается только с рабочей средой , (сжатым воздухом или жидкостью, имеющим практически нулевой коэффициент трения по отнощению к крем1шевой пластине). В результате, обрабатьшаемая пластина свободно вращается вокруг своей оси за счет наличия разности линейных скоростей притира в радиальном направлении. Сжатый воздух и жидкость вьтолняют функцию упругого материала. в результате чего точность обработки пластин повьшгается, в частности обеспешвается необходимая но юхнологии илосконараллельиость. Одновременно с этим за смет передачи нагружающего давления через слой рабочей среды (жидкости или сжатого воздуха) базовая поверхность обрабатываемой пластины не разрушается и не изнаи ивается, что позволяет обрабатывать детали с повышенными требованиями к базовой поверхности, например при наличии в технологической цепочке операции утонения. Это расширяет технологические возможности устройства.

. Изобретение позволяет уменьишть процент брака изготавливаемых на финишных операщ ях механической обработки полупроводниковых подложек.

Формула изобретения Устройство для доводки плоских поверхностей деталей, размещенных в пазах сепарато13H54

ра и поджатых к притиру посредством механизмов прижима, установленных в пазах н связанных с источником рабочей среды, о т ли чающееся тем, что, с целью по5 вышения точности обработки, механизм прижима вьшолнен в виде разделительной мембраны с закрепленным на ее обращенной к притиру поверхности жестким кольцом, имеющим расположенные по периметру и равноудаленные

to друг от друга, по крайней мере, три отверстия, соединенные, как и образова1шая мембраной в пазу сепаратора замкнутая полость, с источником рабочей среды.

(5

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе 1. Авторское свидетельство СССР N 674877 кл. В 24 В 37/04, 1977.

Похожие патенты SU891385A1

название год авторы номер документа
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПОЛИРОВАНИЯ И ДОВОДКИ ВНУТРЕННИХ РЕЗЬБ 1992
  • Кузнецов Ю.Л.
RU2086366C1
Устройство для удаления припуска малой и неравномерной толщины цилиндрических поверхностей деталей 2019
  • Иванов Валерий Игоревич
RU2717757C1
Кассета для доводки 1980
  • Орлов Петр Николаевич
  • Назаров Николай Григорьевич
  • Гаранин Николай Иванович
  • Ермилов Александр Георгиевич
  • Пугачев Игорь Григорьевич
SU905019A1
СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ДОВОДКИ СФЕРИЧЕСКИХ ПОВЕРХНОСТЕЙ 2005
  • Харитонов Петр Тихонович
  • Машихин Евгений Николаевич
RU2320468C2
Устройство для плоскопараллельной доводки 1980
  • Ситников Владимир Иванович
  • Копытин Александр Михайлович
  • Комиссаров Василий Тихонович
  • Ушаков Владимир Федорович
SU944893A1
Устройство для двусторонней доводки деталей 1990
  • Кошуков Иван Иосифович
  • Перепелица Игорь Владимирович
SU1756123A1
СПОСОБ ОБРАБОТКИ ОСЕСИММЕТРИЧНЫХ ОПТИЧЕСКИХ ПОВЕРХНОСТЕЙ И ИНСТРУМЕНТ ДЛЯ ЕГО РЕАЛИЗАЦИИ 2014
  • Семчуков Михаил Николаевич
RU2581694C2
Устройство для односторонней доводки пластин 1972
  • Дюжиков Валерий Иванович
  • Лавров Владимир Афанасьевич
  • Распопов Алексей Иванович
  • Чурсин Александр Ильич
SU481410A1
Устройство для плоскопараллельной доводки деталей 1984
  • Кошуков Иван Иосифович
SU1252142A1
СПОСОБ ДВУСТОРОННЕЙ ДОВОДКИ 1991
  • Шульга Владимир Григорьевич
RU2014984C1

Иллюстрации к изобретению SU 891 385 A1

Реферат патента 1981 года Устройство для доводки плоских поверхностей деталей

Формула изобретения SU 891 385 A1

SU 891 385 A1

Авторы

Ситников Владимир Иванович

Копытин Александр Михайлович

Масленников Павел Николаевич

Комиссаров Василий Тихонович

Даты

1981-12-23Публикация

1980-05-07Подача