(54) ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИЙ МАТЕРИАЛ ДЛЯ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ
КОНДЕНСАТОРОВ
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Пьезоэлектрический материал | 1981 |
|
SU992485A1 |
КЕРАМИЧЕСКИЙ МАТЕРИАЛ С НИЗКОЙ ТЕМПЕРАТУРОЙ ОБЖИГА | 2013 |
|
RU2527965C1 |
Материал для низкоомных тонкопленочных резисторов | 1981 |
|
SU1012354A1 |
ФЕРРИТОВЫЙ МАТЕРИАЛ | 2014 |
|
RU2588262C2 |
Керамический материал | 1980 |
|
SU881071A1 |
СЕГНЕТОКЕРАМИЧЕСКИЙ КОНДЕНСАТОРНЫЙ МАТЕРИАЛ | 1992 |
|
RU2035435C1 |
НИЗКОТЕМПЕРАТУРНЫЙ СТЕКЛОКЕРАМИЧЕСКИЙ МАТЕРИАЛ | 2009 |
|
RU2410358C1 |
ШИХТА ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ СТЕКЛОКЕРАМИЧЕСКОГО КОМПОЗИЦИОННОГО МАТЕРИАЛА | 2018 |
|
RU2722012C2 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ КЕРАМИКИ НА ОСНОВЕ ТИТАНАТА БАРИЯ | 2018 |
|
RU2706275C1 |
НИОБИЕВЫЙ ПОРОШОК, СПЕЧЕННЫЙ НИОБИЕВЫЙ МАТЕРИАЛ И КОНДЕНСАТОР, ВЫПОЛНЕННЫЙ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ СПЕЧЕННОГО МАТЕРИАЛА | 2001 |
|
RU2267182C2 |
1
Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано, в частности, при изготовлении тонкопленочных конденсаторов интегральных схем.
Известен диэлектрический материал для тонкопленочных конденсаторов на основе окислов и соединений, содержащих редкоземельные элементы 1.
Однако данному материалу присущи недостаточная электрическая прочность, низкий процент выхода годных структур и низкая надежность тонкопленочных конденсаторов, получ-енных на основе этого материала.
Наиболее близким к предлагаемому по технической сущности является диэлектрический материал для тонкопленочных конденсаторов, включающий оксид иттрия и оксид гольмия 2.
Данный материал обладает высоким значением удельной емкости (до 0,22 мкФ/см), однако существенным недостатком этого диэлектрического материала является низкое значение электрической прочности, что связано с наличием каналов повыщенной проводимости в пленке.
Цель изобретения - повышение электрической прочности.
Указ1анная цель достигается тем, что диэлектрический материал для тонкопленочных конденсаторов, включающий оксид 5 гольмия, дополнительно содержит аморфный бор при следующем соотнощении компонентов, вес. %:
Оксид гольмия20-10
Аморфный бор20-0,5
,0 Оксид иттрияОстальное
Пример I. (со средним содержанием компонентов). Предлагаемый материал содержит, вес. /о:
Оксид гольмия20
Аморфный бор4
15 Оксид иттрия76
Аморфный бор и предварительно обожженные оксид гольмия и оксид иттрия перемещивают в халцедоновых барабанах на планетарно-щаровой мельнице в среде этилового спирта. Весовое соотношение компонентов при помоле диэлектрический материал: этиловый спирт: молющие щары равно 1:1:1,5. Время помола 5-6 ч. Полученную смесь сушат в термошкафу при 105 ± 5°С до полного удаления спирта и
протирают через сито 40 мкм для разрушения конгломераторов. Готовая порошковая смесь должна иметь удельную поверхность не менее 5000 .
Пример 2. (с максимальным содержанием компонентов). Материал содержит вес. °/оОксид гольмия20
Аморфный бор20
Оксид иттрия60
Технология получения материала аналогична примеру 1.
Пример 3 (с минимальным содержанием компонентов). Материал содержит, вес. /р: Оксид гольмия10
Аморфный бор0,5
Оксид натрия89,5
Технология получения аналогична примеру 1. Полученные материалы в виде спиртовой суспензии (10 г смеси, 20 мл этилового спирта) наносят на мишень-подложку из керамики ВК 94-1 и распыляют методом ВЧ ионно-плазменного распыления.
Предлагаемый состав позволяет получать методом ВЧ ионно-плазменного распыления тонкопленочные конденсаторы с алюминиевыми обкладками, обладаюшие следующими характеристиками:
пФ/м2 до 220 10
Удельная емкость Электрическая В/см (3-8) 106 прочность Тангенс угла диэлектрических
0,003-0,008 потерь
Преимущество предлагаемого материала заключается в том, что он имеет более высокие значения электрической прочности и низкие значения тангенса угла диэлектрических потерь, что дает возможность получать на его основе тонкопленочные конденсаторы, работаюш,ие на более высоких рабочих напряжениях и обеспечивающие надежную работу тонкопленочных микросборок.
Формула изобретения
Диэлектрический материал для тонкопленочных конденсаторов, включающий оксид иттрия и оксид гольмия, отличающийся тем, что, с целью повыщения электрической прочности, он дополнительно содержит аморфный бор при следующем соотношении
компонентов, вес. %: Оксид гольмия
20--10 Аморфный бор 20-0,5 Оксид иттрия Остальное
Источники информации, принятые во внимание при экспертизе
Авторы
Даты
1982-10-30—Публикация
1981-04-06—Подача