Устройство для съема деталей Советский патент 1982 года по МПК H01L21/68 

(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ СЪЕМА ДЕТАЛЕЙ

1

Изобретение относится к технологическому оборудованию для съема и укпадки полупроводниковых кристаллов и предназначено для производства полупроводниковых приборов.

Известно устройство для подачи мелких деталей, в частности полупроводниковых кристаллов с эластичной липкой пленки, содержащее инструмент присоску, выталкиватель и прижимной элемент, выпол-JQ ненный в виде соединенной с приводом возвратно-поступательного движения {замки с отверстием по форме кристалла, снабженной фланцем, высота которого превышает толщину кристалла на 0,3 -,5 0,5 мм . 1 .

Недостатком устройства является его сложность за счет введения дополнительной рамки с приводом возвратно-поступательного движения, а также возможность 2U повреждения соседних периферийных кристаллов при захвате основного кристалла.

Наиболее близким по технической сущности к предлагаемому усявляется устройство для съема деталей, преимущественно полупроводниковых кристаллов с эластичной липкой плешш, содержащее присоску,-опорный столик для эластичной липкой пленки, вакуумную камеру, соединенную с каналами, выполненным в опорном столике, и выталкиватель.

В известном устройстве механизм перемещения выталкивателя механическийС2.

Недостатком этого устройства являет ся то, что устройство ненадежно в работе, а именно, в отсутствии зависимости между подъемом выталкивателя и прижимом эластичной диафрагмы к поверхности опорного столика. Отсутствие такой зависимости приводит к тому, что подъем выталкивателя может производиться, когда эластичная диафрагма не прижата, вакуумом к onopHOKfy столику. А это, в свою очередь, приводит к смещению и отрьгоу от эластичного носителя соседних кристаллов и следовательно, к увеличению брака.

Цель изобретения - повышение надежности работы.

Поставленная цель достигается тем, что в устройстве для съема деталей, преимущественно полу-проводниковых кристаллов с эластичной липкой пленки, содержащем присоску, опорный столик для размещения эластичной липкой пленки, вакуумную камеру, соединенную с каналами, выполненными в опорном столике, и выталкиватель, выталкиватель закреплен на дне вакуумной камеры.

Причем вакуумная камера выполнена в виде сильфона.

На фиг. 1 изображено предлагаемое устройство, общий вид; на фиг. 2 - то же, в рабочем положении.

Устройство для объема мелких деталей содержит присоску 1, опорный столик 2 для размещения эластичной липкой плен-20 ки 3, на которой расположены кристаллы 4 и общую вакуумную камеру 5, Опорный столик 2 снабжен каналами 6, от которого отходят сквозные отверстия 7. Каналы 6 сообщаются с общей вакуумной камерой 25 5, через полость- которой проходит выталкиватель 8. Он закреплен одним концом на днище вакуумной камеры 5 и снабжен пружиной 9. Вакуумная камера 5 служит одновременно для присасьшания диафрагмы зо

и перемещения выталкивателя 8.

Устройство работает следующим образом.

Разделенная на кристаллы 4 полупроводниковая пластина закрепляется на эластичной липкой пленке 3. При объеме кристаллов пленки 3 перемещается относительно опорного столика 2, снабженного вакуумными отверстиями 7. После совмеще- ния оси кристалла 4 с осью выталкивате- 40 ю щ

ля 8 на кристалл опускается инструментприсоска 1. При этом торец инструментаприсоски не доходит до поверхности кристалла. В этот момент в полость камеры 5 и в отверстия 7 опорного столика 2 подается вакуум. При наличии надежного прижима диафрагмы с кристаллами к поверхности опорного столика 2 камера 5 сжимается и поднимает выталкиватель 8, Если же пленка 3 не прижата к опорному столику, то при подаче вакуума воздух

будет через отверстия 7 отсасьюаться из атмосферы, а камера 5 сжиматься не будет и не будет подниматься выталкиватель 8, т. е. выталкиватель 8 и сжатие камеры 5 возможно только при хорошо прижа-

той пленке к опорному столику.

Кристалл, находящийся над выталкивателем поднимается и захватьюается присоской. Затем вакуум, отключается, камера 5 и выталкиватель 8 возвращается

в первоначальное положение под действием пружины 9. После этого производится ориентация следующего кристаппа. Цикл повторяется.

Использование предлагаемого устройстшее присоску, опорный столик для размещения эластичной липкой пленки, вакуумную камеру, соединенную с каналами,выполненными в опорном столике, и выталкира выполнена в виде сильфона. Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1.Авторское свидетельство СССР

N9 562884, кл. Н О1 L. 21/68, 2О.О4.75.

2.Патент Швейцарии № 548112, кл. Н О1 L, 7/66, опублик. 11.О4.74. ва повьщ1ает надежность работы и исключает брак. Выход годных кристаллов на операхши съема увеличился с 99,5% до. 99,9%. Формула изобретения 1. Устройство для съема деталей, преимущественно полупроводниковых кристаллов с эластичной липкой пленки, содержа- ватель, отличающееся тем. что, с целью повышения надежности работы, выталкиватель закреплен на дне вакуумной камеры. 2. Устройство по п. 1, о т л и ч а е е с я тем, чтс вакуумная каме