Способ изготовления матриц запоминающих устройств на цилиндрических магнитных пленках Советский патент 1984 года по МПК G11C11/14 

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МАТРИЦ ЗАПОМИНАЮЩИХ УСТРОЙСТВ НА ЦИЛИНДРИЧЕСКИХ МАГНИТНЫХ ПЛЕНКАХ по авт. св. 282428, отличающийс я тем, что, с целью повышения выхода годных матриц, технологические струны перемещают с уменьшением расстояния между ними после каждого шага сформованных витков числовых обмоток за зажим-разделитель.

to ел

о

d

со

Изобретение относится к вычислительной технике.

По основному авт.св. 282.428 известен способ изготовления матриц запоминающих устройств на цилиндрических магнитных пленках путем натяжения технологических струн, образования зева их разведением, вплетения в технологические струны проводников числовых обмоток, перемещения сформованных витков чист ловых обмоток за зажим-разделитель, заливки полученных обмоток после окончания плетения компаундом и извлечения технологических струнCll

Недостатком известного способа является низкий выход годных матриц, обусловленный различной величиной формируемых .полуволн витков обмоток по длине матрицы - минимальных в начале плетения матрицы и увеличивающихся к концу плетения /матрицы.

Цель изобретения - повышение выхода годных матриц путем формот вания одинаковых витков числовых обмоток по всей длине матрицы.

Поставленная цель достигается тем, что при способе изготовления матриц запоминающих устройств на

цилиндрических магнитных пленках технологические струны перемещают с уменьшением расстояния между ними после каждого шага сформованных, витков числовых обмоток за зажимразделитель.

Уменьшение длины технологических струн, участвующих в образовании зева, с одновременным уменьшением высоты их разведения после каждого шага перемещения сформованных . витков числовых обмоток за зажимразделитель приводит к тому, что при каждом шаге формовки проложенного в зев проводника числовой обмотки на него действуют технологические струны с одинаковым усилием на всей длине формования витков число вых обмоток при плетении полотна, что ведет к образованию одинаковых, полуволн витков числовых обмоток как в начале изготовления полотна, так и .в конце его изготовления.

Таким образом, перемещение технологических струн с периодическим расстоянием между ними позволяет формовать одинаковые по величине полуволны витков числовых обмоток по всей длине матрицы, что повышает выход годных матриц.