Матрица для объемной штамповки Советский патент 1979 года по МПК B21J13/02 

жения проволоки эта поверхность возвращается в предварителыно деформированное и напряженное состояние. Этим обеспечивается высокая ге|рметичаость цилиндрической поверхности заготовок, снижается тех нологическое усилие выталкивания и создаются оптимальные уровни предварительных напряжений в каждом сечении вставки. Формула изоб|ретения Матрица для объемной штамповки, выполненная в виде вставки с обмоткой из высокодрочного материала, отличающ а Я С я тем, что, с целью повышения геометрической точности изготавливаемых изделий путем уменьшения влияния упругой деформаиии вставки на материал заготовки, образующая поверхности сопряжен-и я вставки с обмоткой выполнена по кривой, соответствующей кривой (распределения интенсивности усилий, действующих на встав:ку ери штамповке. Источник информации, принятый во внимание лри акюпертизе: 1. Патент США № 369L816, кл. 72-467, 1972.