t12
Изобретение относится к нанесению покрытий в вакууме и может быть использовано для толстых пленок металлов при изготовлении, например,, по- лосковых линий СВЧ.
Известны испарители типа лодоч- ка, применяемые, для напыления пленок металлов.
Эти иcпapитeJП не. позволяют напы- лять пленки большой толщины, так как обладают малым объемом загрузки испаряемого материала.
.Наиболее близким по технической сущности к изобретению является испаритель, содержащий коаксиально распо- ложенные нагреватель, радиационные экраны, тигель и вставку для загрузки испаряемого вещества, установленную в тигель.
Недостатком этого испарителя является низкая скорость испарения.
Цель изобретения - повышение ско рости испарения.
Поставленная цель достигает
с я тем,
что
испарителе,
со
держащем коаксиально расположенные нагреватель, радиационные экраны, тигель и вставку для загрузки испаряемого вещества, установленную в тигле, вставка установлена в тигле с зазором и выполнена из пористого материала, причем объем открытых пор вставки равен или превышает объем загрузки испаряемого вещества.
На чертеже схематически изображен предлагаемый испаритель.
Термический испаритель состоит из графитового тигля 1, внутри которого расположена вставка 2, выполненная из пористого смачивающегося расплаво материала (например, при испарении меди вставка может быть выполнена из пористого карбида ниобия). Для умень щения контакта испаряемого материа
Редактор Н.Швыдкая Заказ 4883/21
Составитель В.Казанков
Техред И.Иопович Корректор А.Зимокосов
Тираж 878Подписное
ВНИИПИ Государственного комитета СССР
по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5
Нроизводственно-полиграфичоское предприятие, г.Ужгород, ул.Проектная, 4
5
0
5
0
40
5
42
ла с тиглем (что повышает срок его службы) вставка установлена в тигле на стержне 3. Тигель помещен в цилиндрический щелевой нагреватель 4, выполненный из графита. Для уменьшения потерь тепла посредством излучения испаритель окружен радиационными экранами 5 и 6.
Испаритель работает следующим образом.
Испаряемый материал загружают во вставку 2. После откачки вакуумной установки испаритель нагревают, пропуская через нагреватель 4 ток i. При достижении необходимой температуры загрузка испаряемого материала расплавляется и, смачивая всю пористую вставку 2, испаряется с ее внутренней и внешней стенок. Если объем открытых пор (т.е., имеющих сообщение с поверхностью через соседние поры) вставки 2 равен или превышает объем загрузки испаряемого материала , последний полностью находится в порах вставки 2 .и не образует на ее поверхности толстых слоев, которые приводят к разбрызгиванию. Испарение происходит из. тонкого поверхностного слоя, куда материал поступает за счет капиллярньк сил.
Таким образом, испарение материалов происходит из тонкого слоя, что устраняет разбрызгивание,,а так как материал одновременно испаряется не только с внутренней, но и с внешней поверхности вставки, .т.е. поверх-г. ность испарения увеличена почти в 2 раза, то при той же температуре испарения скорость испарения повышается также почти в 2 раза. Л если учесть, что малая толщина слоя расплава позволяет также повысить температуру испарения, то скорость напыления может быть увеличена еще больше.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
ИСПАРИТЕЛЬ | 1997 |
|
RU2121522C1 |
Испаритель | 1982 |
|
SU1257115A1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЗАГРУЗКИ В ИСПАРИТЕЛЬ ИСПАРЯЕМЫХ ВЕЩЕСТВ МАТЕРИАЛОВ | 1991 |
|
RU2019577C1 |
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ И ИСПАРИТЕЛЬ ВАКУУМНОЙ УСТАНОВКИ ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ | 1992 |
|
RU2061786C1 |
СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ВЫСОКОЧИСТОГО МЕТАЛЛА | 1995 |
|
RU2083698C1 |
ТЕРМИЧЕСКИЙ ИСПАРИТЕЛЬ ДЛЯ ВАКУУМНЫХ УСТАНОВОК | 1972 |
|
SU358428A1 |
Способ получения тонких пленок тугоплавких, или среднеплавких металлов, или их соединений тепловой энергией самораспространяющегося высокотемпературного синтеза | 2021 |
|
RU2761594C1 |
Испаритель для нанесения многокомпонентных пленок | 1975 |
|
SU544711A1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ МОЛЕКУЛЯРНО-ЛУЧЕВОЙ ЭПИТАКСИИ | 1995 |
|
RU2111291C1 |
Испаритель направленного действия для вакуумных установок | 1977 |
|
SU1257113A1 |
Иванов-Есинович И.К | |||
Технология микросхем | |||
М.: Высшая школа,1972, с | |||
Устройство для выпрямления опрокинувшихся на бок и затонувших у берега судов | 1922 |
|
SU85A1 |
Технология тонких пленок | |||
Справочник | |||
/Под ред.Л.Майссела и Р.Глэнга | |||
М.: Советское радио, 1977, с | |||
Контрольный стрелочный замок | 1920 |
|
SU71A1 |
Авторы
Даты
1986-09-15—Публикация
1980-01-10—Подача