Устройство для подачи жидкого металла в валки-кристаллизаторы установки непрерывного литья Советский патент 1989 года по МПК B22D11/06 

Изобретение относится к литейному производству, к непрерывному литью на установках с валковым кристаллизатором.

Целью изобретения является повышение стабильности процесса литья и качества получаемой заготовки путем выравнивания температуры жидкого металла по ширине литейной насадки,

На фиг. 1 изображено устройство, при подаче жидкого металла в валки- кристаллизаторы, вид сверху; на фиг. 2 - то же, вид сбоку.

Устройство состоит из желоба 1 с внутренним диаметром d, изготовленно го из теплоизоляционного материала и герметично соединенного с метал- Яоприемником 2, который изнутри футерован теШюизоляционньш материалом 3. Боковые стенки металлоприемника расходятся от желоба 1 на всю ширину литейной насадки 4 и образуют между с обой угол . В мет-аллоприемнике 2 на его оси установлен вогнутый экран 5, изготовленный также из теплоизо- ляционного материала. Угол /i , образованный касательными, проведенными от кромок экрана, равен ( у) Ширина экрана 5.составляет 1,5d - - (B-2d), где В - расстояние между стенками металлоприемника в месте установки экрана. Экран 5 установлен на расстоянии 1 2,9(0,5 - 0,5) до желоба 1. Боковые ограничители 6 ли- тейной насад1 и 4 выполнены из полимерного материала, на них вьтолнен скос под углом с/ 15-.0 и они плотно прижимаются к литейной насадке 4 при помощи гаек 7 и металлических пластин 8 из антифрикционного металла.

Устройство работает следуюрдам образом.

Струя жидкого металла, вытекающая из желоба 1, ударяется в экран 5, отражаясь от экрана, резко меняет направление и перемешивается, при этом интенсивность турбулентности

5

0

5 O п g

0

5

.струи возрастает, а кинетическая энергия струи частично гасится, В результате в пространстве за экраном потоки расплава перемещаются не узкими струями, а начинают интенсивно распшряться и по достижении кромки литейной насадки охватьгаают всю ее ширину L. После выхода из насадки 4 расплав попадает в валковьА кристаллизатор , где формируется заготовка 9.

Устройство позволяет стабилизировать процесс литья и повысить качество получаемой заготовки за счет равномерности распределения температуры жидкого металла по ширине литейной насадки.

Формула изобретения Устройство для подачи жидкого металла в валки-кристаллизаторы установки непрерывного литья, содержащее желоб, металлоприемник, литейную насадку с боковыми ограничителями и рассекатель, установленный :в полости металлоприемника, отличающееся тем, что, с целью повышения стабильности процесса литья и качества получаемой заготовки путем выравнивания температуры жидкого металла по ширине литейной :насадки, рассекатель вьтолнен в В1вде установленного соосно металлоприем- нику вогнутого экрана, а боковые ; ограничители литейной насадки вьшол- нены из термостойкого полимерного материала, при этом ширина экрана составляет 1,5d...(B-2d), расстояние от экрана до желоба равно 1 , 2,9(0,5Ь - 0,5d), а угол между проходящими через кромки экрана касательными Линиями равен р у, где d - внутренний диаметр жело- . ба, мм;

В - расстояние между стенками ме галлоприемника в месте установки экрана, мм;

b - ширина экрана, мм;

f - угол между боковыми стенками металлоприемника, град.

Изобретение относится к литейному производству, к непрерывному литью на установках с валковым кристаллизатором. Цель изобретения - повышение стабильности процесса литья и качества получаемой заготовки путем выравнивания температуры жидкого металла по ширине литейной насадки. Устройство содержит желоб 1, металлоприемник 2, литейную насадку 4 с боковыми ограничителями 6 и экран 5, установленный в полости металлоприемника 2 и выполненный в виде размещенного соосно с металлоприемником 2 вогнутого экрана. Боковые ограничители 6 литейной насадки 4 выполнены из термостойкого полимерного материала. Ширина экрана 5 составляет 1,5D-/B-2D/, расстояние L от экрана до желоба 1 равно L=2,9X/0,5B-0,5D/, а угол β между проходящими через кромки экрана касательными линиями равен β=180°-γ, где D - внутренний диаметр желоба, мм

В-расстояние между стенками металлоприемника в месте установки экрана, мм

в- ширина экрана, мм

γ - угол между боковыми стенками металлоприемника, град. 2 ил.